研磨用組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-247096
公開番号（公開出願番号）：特開2000-073049
出願日： 1998年09月01日
公開日（公表日）： 2000年03月07日
要約：

【要約】【課題】研磨速度が大きく、さらに貯蔵安定性および皮膚刺激性などの取り扱い性に優れ、かつ研磨機などに対する腐食性が抑制された研磨用組成物の提供。【解決手段】二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、窒化ケイ素、および二酸化マンガンからなる群より選ばれる少なくとも1種類の研磨材、ならびに水を含んでなるメモリーハードディスクの研磨用組成物であって、さらにこの組成物中に溶存している鉄キレート錯体を含んでなり、組成物全体のpHが6以上10以下であることを特徴とする、メモリーハードディスクの研磨用組成物

請求項（抜粋）：

二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、窒化ケイ素、および二酸化マンガンからなる群より選ばれる少なくとも1種類の研磨材、ならびに水を含んでなるメモリーハードディスクの研磨用組成物であって、さらにこの組成物中に溶存している鉄キレート錯体を含んでなり、組成物全体のpHが6以上10以下であることを特徴とする、メモリーハードディスクの研磨用組成物。

IPC (3件)：

C09K 3/14 550 , C09K 3/14 , G11B 5/84

FI (6件)：

C09K 3/14 550 D , C09K 3/14 550 C , C09K 3/14 550 E , C09K 3/14 550 M , C09K 3/14 550 Z , G11B 5/84 A

Fターム (6件)：

5D112AA02 , 5D112BA06 , 5D112GA02 , 5D112GA09 , 5D112GA14 , 5D112GA30

引用特許：

出願人引用 (5件)

磁気ディスク基板研磨用組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-136821 出願人：昭和電工株式会社, 山口精研工業株式会社
研磨用組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-008771 出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
特開平4-363385

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審査官引用 (5件)

磁気ディスク基板研磨用組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-136821 出願人：昭和電工株式会社, 山口精研工業株式会社
研磨用組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-008771 出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
特開平4-363385

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