立体画像処理方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：石原昌典 , 石原孝志 , 生井和平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-129793
公開番号（公開出願番号）：特開2004-334550
出願日： 2003年05月08日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：

【課題】立体画像用の画像データを高速に生成可能であり、さらに、多くの視点の画像を合成する場合であっても高速に高解像度の立体画像用画像データを生成可能である立体画像処理方法を提供する。【解決手段】ステンシルバッファに所定のステンシルパターンを格納する過程と、視点番号とRGB成分のうちの1成分とから、ステンシル参照値を決定する過程と、1成分をフレームバッファに描画するようにカラーマスクを決定する過程とからなる。そして、決定されたステンシル参照値とステンシルパターンの要素値を照合し、一致した値に対応する画素に、決定されたカラーマスクに基づき1成分で立体モデルを描画する。残りの他の成分に対しても、同様の過程を繰り返す。そして、他の視点に対しても同様の過程を繰り返すことで、多視点の画像を合成し、立体画像用画像データを生成する。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

裸眼立体視表示装置に立体モデルを立体的に表示するために、n個(n=2,3,4・・・)の視点から立体モデルを見たRGB画像を合成し、立体画像用画像データを生成する立体画像処理方法であって、該方法は、マスク情報を格納するステンシルバッファに、前記裸眼立体視表示装置に応じて、描画する画素を特定するための要素値からなる所定のステンシルパターンを作成して格納する過程と、立体モデルに対して、視点番号m(m=1,2,・・・n)と描画するRGB成分のうちの少なくとも1成分とから、ステンシル参照値を決定する過程と、前記決定されたステンシル参照値に対応する画素に対して、前記RGB成分のうちの前記少なくとも1成分をフレームバッファに描画するようにカラーマスクを決定する過程と、前記決定されたステンシル参照値と前記ステンシルパターンの要素値を照合し、一致した値に対応する画素に、前記決定されたカラーマスクに基づき前記少なくとも1成分で立体モデルを描画する過程と、 RGB成分のうちの残りの他の成分に対して、前記ステンシル参照値を決定する過程と、カラーマスクを決定する過程と、立体モデルを描画する過程とを行う、色成分を変更して描画する過程と、 m+1番目(但し、m<n)の視点に対して、前記ステンシル参照値を決定する過程と、カラーマスクを決定する過程と、立体モデルを描画する過程と、色成分を変更して描画する過程とを行い、これらをn番目の視点になるまで繰り返す、視点を変更して描画する過程と、を具備し、これらにより立体画像用画像データを生成することを特徴とする立体画像処理方法。

IPC (2件)：

G06T17/40 , G02B27/22

FI (2件)：

G06T17/40 F , G02B27/22

Fターム (6件)：

5B050BA09 , 5B050EA24 , 5B050EA26 , 5B050FA02 , 5B050FA05 , 5B050FA06

引用特許：

審査官引用 (4件)

インターリーバ、立体視映像表示装置、及び立体視映像生成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-202537 出願人：株式会社ナムコ
アンチエイリアシング方法及びこれを用いた画像処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-171117 出願人：株式会社セガ・エンタープライゼス
立体画像処理装置、ユーザ・インタフェース装置、立体表示用バッファ制御方法及びその制御装置、立体画像表示装置、そしてプログラム記憶媒体
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-185135 出願人：株式会社エム・アール・システム研究所

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