特許
J-GLOBAL ID：200903011043521010
セメント製造装置の排ガスの処理方法及び処理システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
衡田 直行
, 北村 周彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-227710
公開番号（公開出願番号）：特開2007-039296
出願日： 2005年08月05日
公開日（公表日）： 2007年02月15日
要約：
【課題】セメント製造装置の排ガス中の残留性有機汚染物質(ダイオキシン類、PCB類等)、水銀、酸性ガス(硫黄酸化物等)、窒素酸化物、及び悪臭物質を効率的に除去しうる処理方法を提供する。【解決手段】(A)集塵手段11を用いて、排ガス中のダストを捕集し、該ダストをセメント製造装置4,5に返送する工程と、(B)ダスト除去後の排ガス中の残留性有機汚染物質、水銀、酸性ガス及び悪臭物質を、吸着塔14にて吸着材に吸着させ、並びに窒素酸化物を還元分解する工程と、(C)吸着材を、脱離塔18にて不活性ガス中で300°C以上に加熱して、残留性有機汚染物質及び悪臭物質を分解し、かつ水銀及び酸性ガスを離脱させる工程と、(D)得られた水銀及び酸性ガスを含む不活性ガスを、冷却塔24、吸収反応塔27、乾式水銀吸着塔29等で処理する工程を含む。工程(B)、(C)の吸着材は、これら工程間で連続的に循環させて使用する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
残留性有機汚染物質、水銀含有物質、酸性ガス、悪臭物質、及びダストを含む、セメント製造装置の排ガスの処理方法であって、
(A)集塵手段を用いて、前記排ガスに含まれているダストを捕集して、該捕集したダストをセメント製造装置に返送する工程と、
(B)工程(A)の処理後の排ガスと、吸着材を接触させて、該吸着材に、前記排ガスに含まれている残留性有機汚染物質、水銀含有物質、酸性ガス、及び悪臭物質を吸着させる工程と、
(C)工程(B)の処理後の吸着材を、不活性ガス雰囲気中で300°C以上に加熱することによって、該吸着材に吸着している残留性有機汚染物質及び悪臭物質を分解し、かつ、該吸着材から水銀含有物質及び酸性ガスを離脱させる工程と、
(D)工程(C)で得られた水銀含有物質及び酸性ガスを含む不活性ガスを処理して、無害化する工程とを含み、
工程(B)及び工程(C)において、前記吸着材を、工程(B)と工程(C)の間で連続的に循環させることを特徴とするセメント製造装置の排ガスの処理方法。
IPC (8件)：
C04B 7/60
, B01D 53/70
, B01D 53/64
, B01D 53/50
, B01D 53/81
, B01D 53/68
, B01D 53/72
, B01D 53/56
C04B7/60
, B01D53/34 134E
, B01D53/34 136A
, B01D53/34 136Z
, B01D53/34 123D
, B01D53/34 134A
, B01D53/34 120D
, B01D53/34 129D
4D002AA02
, 4D002AA12
, 4D002AA19
, 4D002AA21
, 4D002AA28
, 4D002AA29
, 4D002AA32
, 4D002AA33
, 4D002AB01
, 4D002AB02
, 4D002AC05
, 4D002BA02
, 4D002BA04
, 4D002BA06
, 4D002BA13
, 4D002BA14
, 4D002CA08
, 4D002DA02
, 4D002DA07
, 4D002DA12
, 4D002DA41
, 4D002DA57
, 4D002EA02
, 4D002EA08
, 4D002GA01
, 4D002GA02
, 4D002GB01
, 4D002GB02
, 4D002GB11
出願人引用 (2件)
審査官引用 (8件)
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