特許
J-GLOBAL ID:200903011071287189
ポリオールの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
最上 正太郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-220037
公開番号(公開出願番号):特開2001-040084
出願日: 1999年08月03日
公開日(公表日): 2001年02月13日
要約:
【要約】【課題】 簡便で、効率的な方法で製造された、特定の組成を有するホスファゼニウム化合物を触媒として用いたポリオールの製造方法を提供する。【解決手段】 触媒として、有機アニオンのホスファゼニウム塩の含有量が85重量%以上、無機アニオンのホスファゼニウム塩の含有量が15重量%未満であり、且つ、アルカリ金属、及びアルカリ土類金属から選ばれる少なくとも1種の金属の含有量が1×10-4〜2.5重量%である化合物を使用する、ポリオールの製造方法。
請求項(抜粋):
ホスファゼニウム化合物を触媒として、活性水素化合物にエポキサイド化合物を付加重合するポリオールの製造方法であって、触媒として、化学式(1)[化1]【化1】(化学式(1)中のa、b、c及びdは、全てが同時には0とならない0〜3の整数である。Rは同種または異種の炭素数1〜10個の炭化水素基であり、同一窒素原子上の2個のRが結合して環構造を形成する場合もある。Q- はヒドロキシアニオン、又はアルコキシアニオンを示す。)で表される有機アニオンのホスファゼニウム塩の含有量が85重量%以上、化学式(2)[化2]【化2】(化学式(2)中のa、b、c及びdは、全てが同時には0とならない0〜3の整数である。Rは同種または異種の炭素数1〜10個の炭化水素基であり、同一窒素原子上の2個のRが結合して環構造を形成する場合もある。rは1〜3の整数であって、ホスファゼニウムカチオンの数を表し、Tr-は、価数rの無機アニオンを示す。)で表される無機アニオンのホスファゼニウム塩の含有量が15重量%未満、アルカリ金属及びアルカリ土類金属から選ばれる少なくとも1種の金属の含有量が1×10-4〜2.5重量%である化合物を用いることを特徴とするポリオールの製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
C08G 65/10
, B01J 27/24 X
Fターム (5件):
4J005AA12
, 4J005AA13
, 4J005AA14
, 4J005BB01
, 4J005BB02
引用特許: