特許
J-GLOBAL ID：200903011087025842

銅粉およびその製造方法、銅ペースト、積層セラミックコンデンサ、並びに銅粉判定方法

発明者：
伊波 興祐

伊波 興祐 について

, 
藤田 英史

藤田 英史 について


出願人/特許権者：
DOWAエレクトロニクス株式会社

DOWAエレクトロニクス株式会社 について


代理人 (2件)： 阿仁屋 節雄 ,  清野 仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-253781
公開番号（公開出願番号）：特開2009-084614
出願日： 2007年09月28日
公開日（公表日）： 2009年04月23日
要約：
【課題】脂肪酸による表面処理において、充填性が向上し銅ペーストに好適な銅粉、これを用いた銅ペースト、積層セラミックコンデンサを提供する。【解決手段】銅粉を酸性水溶液に分散させたとき、プロトンを引き寄せる官能基が、粒子表面に4.0×1019個/m2以上存在し、pH7において官能基に引き寄せられているプロトンが1.0×1019個/m2以上の銅粉、当該銅粉を用いた銅ペースト、積層セラミックコンデンサを提供する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸性水溶液に分散させたとき、当該酸性水溶液中のプロトンを引き寄せる性質を持つ官能基が表面に4.0×1019個/m2以上存在し、且つ、当該酸性水溶液をpH7の水溶液としたとき、当該官能基に引き寄せられているプロトンが1.0×1019個/m2以上であることを特徴とする銅粉。
IPC (8件)：
B22F 1/00 ,  B22F 1/02 ,  B22F 9/24 ,  H01B 5/00 ,  H01B 1/22 ,  H01B 13/00 ,  H01G 4/12 ,  H01G 4/30
FI (9件)：
B22F1/00 L ,  B22F1/02 B ,  B22F9/24 B ,  H01B5/00 E ,  H01B1/22 A ,  H01B13/00 501Z ,  H01G4/12 361 ,  H01G4/30 301C ,  H01G4/30 301B
Fターム (23件)：
4K017AA03 ,  4K017BA05 ,  4K017DA08 ,  4K017EJ01 ,  4K018BA02 ,  4K018BC29 ,  4K018BD04 ,  5E001AB03 ,  5E001AC09 ,  5E001AF06 ,  5E001AJ01 ,  5E001AJ03 ,  5E082AA01 ,  5E082AB03 ,  5E082BC40 ,  5E082EE26 ,  5E082EE45 ,  5E082GG11 ,  5E082PP03 ,  5G301DA06 ,  5G301DA42 ,  5G301DD01 ,  5G307AA02
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (3件)

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