特許
J-GLOBAL ID：200903011143228735
ラミネート装置の加圧機構
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下田 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-296589
公開番号（公開出願番号）：特開2005-066609
出願日： 2003年08月20日
公開日（公表日）： 2005年03月17日
要約：
【課題】 熱圧着工程等の広い圧力制御範囲に対する安定した細かな圧力制御パターンを容易に得るとともに、低圧から高圧までの広い圧力制御範囲全体における高度の制御精度を得、ICカード等の更なる品質向上を図る。【解決手段】 加圧盤2dを加圧する一又は二以上の二次加圧シリンダ3a...、3c...を有する複数のシリンダ群Bx,Byと、各シリンダ群Bx,Byに対応して設けることにより、対応する各シリンダ群Bx,Byの二次加圧シリンダ3a...、3c...に接続して当該二次加圧シリンダ3a...、3c...を駆動する複数の一次加圧シリンダ4x,4yと、各一次加圧シリンダ4x,4yの一又は二以上を選択して当該一次加圧シリンダ4x,4yを駆動制御する駆動制御手段5を備える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
一対の加圧盤間に介在させた積層基材を加圧するラミネート装置の加圧機構において、前記加圧盤を加圧する一又は二以上の二次加圧シリンダを有する複数のシリンダ群と、各シリンダ群に対応して設け、かつ対応する各シリンダ群の二次加圧シリンダに接続して当該二次加圧シリンダを駆動する複数の一次加圧シリンダと、各一次加圧シリンダの一又は二以上を選択して当該一次加圧シリンダを駆動制御する駆動制御手段を備えることを特徴とするラミネート装置の加圧機構。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (9件)：
4E090AA01
, 4E090AB01
, 4E090BA01
, 4E090CA02
, 4E090DA01
, 4E090DB01
, 5B035AA04
, 5B035BA05
, 5B035CA01
出願人引用 (1件)
審査官引用 (8件)
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