特許
J-GLOBAL ID：200903011177338939
偏光化素子の製造方法、偏光化素子、および画像投影装置の製造方法、並びに画像投影装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
渡辺 隆男
, 大澤 圭司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-007759
公開番号（公開出願番号）：特開2005-202104
出願日： 2004年01月15日
公開日（公表日）： 2005年07月28日
要約：
【課題】 導電性を有する格子構造を用いた偏光化素子は、有機膜からなる偏光化素子に比べ耐熱性が高く、大光量を扱う光学系に対しても採用することができる。しかし、良好な偏光特性を持たせるには、その格子構造の周期を、使用する光の波長の20%以下程度に微細化する必要があり、その製造コストが高額になる。 導電性を有する格子構造を用いた偏光化素子を安価に製造可能とする製造方法を提供し、安価な上記偏光化素子の提供、大光量を有する画像投影装置の提供を目的とする。【解決手段】 リソグラフィ工程で形成する格子構造の半分の周期からなる導電性の格子構造を形成することにより、リソグラフィ工程のコストを削減する。また、導電性の格子構造の形成を、安価なインプリンティングにより行なうものとする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
透明基板上に導電性材料から成り所定の周期を有する格子構造の形成された偏光化素子を製造する方法であって、
前記格子構造の製造工程は、
前記所定の周期の2倍の周期を有する凹凸形状を形成する凹凸形状形成工程と、
前記凹凸形状の段差部の側面に相当する位置に、所定の薄膜を形成する側面薄膜形成工程とを含むことを特徴とする偏光化素子の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
2H049BA02
, 2H049BA45
, 2H049BC08
, 2H049BC10
, 2H049BC22
