シリコン系材料の洗浄方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高月亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-189022
公開番号（公開出願番号）：特開平7-022363
出願日： 1993年06月30日
公開日（公表日）： 1995年01月24日
要約：

【要約】【目的】パーティクルやCu等の重金属不純物の吸着を抑制でき、シリコン表面のマイクロラフネスを抑制でき、その結果、酸化膜等を安定なシリコン表面上に形成させることが可能となり、デバイスの歩留りを向上させ、最終的な信頼性も向上させることができるシリコン系材料の洗浄方法を提供する。【構成】シリコン系材料の洗浄に際し、前段洗浄Iの後の最終洗浄工程IIにフッ酸に塩酸を添加した液を用いる。

請求項（抜粋）：