特許

J-GLOBAL ID：200903011275594722

ガスハイドレート製造方法および製造装置

発明者： 幸田 和郎 ,  井田 博之
出願人/特許権者： JFEエンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 佐々木 宗治 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-323751
公開番号（公開出願番号）：特開2003-231892
出願日： 2001年05月30日
公開日（公表日）： 2003年08月19日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 水中へのガス拡散・溶解と生成反応熱の除去を効率よく行うことができ、かつ装置を単純でコンパクトにできるガスハイドレートの製造方法および装置を得る。【解決手段】 原料水と原料ガスとを反応させてガスハイドレートを製造する方法において、原料水と原料ガスとをライン途中でラインミキサー5により混合して原料ガスを原料水に溶解させる混合・溶解工程と、混合・溶解されたものを反応管路7に流しながら冷却してガスハイドレートを生成する工程とを備えた。反応管路を採用したことで、管路の周囲からの冷却が可能となり、装置の単純化、コンパクト化が実現できる。

請求項（抜粋）：

原料水と原料ガスとを反応させてガスハイドレートを製造する方法において、原料水と原料ガスとをライン途中で混合して原料ガスを原料水に溶解させる混合・溶解工程と、混合・溶解されたものを反応管路に流しながら冷却してガスハイドレートを生成する工程とを備えたことを特徴とするガスハイドレート製造方法。

IPC (5件)：

C10L 3/06 ,  B01F 1/00 ,  B01F 3/04 ,  B01F 5/00 ,  B01J 19/00

FI (5件)：

B01F 1/00 A ,  B01F 3/04 Z ,  B01F 5/00 D ,  B01J 19/00 A ,  C10L 3/00 A

Fターム (14件)：

4G035AA01 ,  4G035AB27 ,  4G035AC08 ,  4G035AC11 ,  4G035AC12 ,  4G075AA03 ,  4G075AA23 ,  4G075AA62 ,  4G075BB05 ,  4G075BB10 ,  4G075BD27 ,  4G075CA03 ,  4G075DA02 ,  4G075EB21

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ガスハイドレートの連続製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-069494   出願人：三井造船株式会社
• ガスハイドレートの製造装置および製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-120400   出願人：三井造船株式会社