特許
J-GLOBAL ID:200903011317657029

下水処理場の水質制御装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-066911
公開番号(公開出願番号):特開2001-252691
出願日: 2000年03月10日
公開日(公表日): 2001年09月18日
要約:
【要約】【課題】 非連続的かつ低精度のセンサを用いることなく、下水処理場の各種水質項目を常に良好に維持することができる下水処理場の水質制御装置を提供する。【解決手段】 流量計80〜84、UV計85およびDO計86等の連続的かつ高精度の計測を行うことが可能なセンサにより下水処理場50の所定の状態量(水量や水質等)を計測する。そして、その計測値に基づいて、シミュレータセンサ90により、ASM2等の水質シミュレーションモデルを用いて、所定の測定周期内で計測することが困難な水質項目の値(処理水NH4値)を求める。その後、DO制御目標値演算部94、DO制御部95および風量制御部96により、シミュレータセンサ90により出力された出力値(処理水NH4値)に基づいて、DO値が一定となるよう開閉弁58の弁開度を制御する。
請求項(抜粋):
下水処理場の各種水質項目を制御する制御機器を備えた下水処理場の水質制御装置において、下水処理場の状態量のうち所定の測定周期内で計測することが可能な状態量の計測値を入力として、水質シミュレーションモデルを用いて、下水処理場の水質項目の値を出力するシミュレータセンサと、前記シミュレータセンサにより出力された出力値を入力として水質項目の制御目標値を演算する制御目標値演算部と、前記制御目標値演算部により演算された制御目標値に基づいて前記制御機器の運転を制御する制御部とを備えたことを特徴とする下水処理場の水質制御装置。
IPC (2件):
C02F 3/34 101 ,  C02F 3/12 ZAB
FI (2件):
C02F 3/34 101 C ,  C02F 3/12 ZAB H
Fターム (24件):
4D028AC01 ,  4D028AC03 ,  4D028BC18 ,  4D028BD11 ,  4D028BD16 ,  4D028CA00 ,  4D028CA05 ,  4D028CA07 ,  4D028CA09 ,  4D028CA11 ,  4D028CA12 ,  4D028CB03 ,  4D028CC00 ,  4D028CC05 ,  4D028CC07 ,  4D028CD01 ,  4D028CD05 ,  4D028CE03 ,  4D040BB05 ,  4D040BB07 ,  4D040BB57 ,  4D040BB65 ,  4D040BB91 ,  4D040BB92
引用特許:
審査官引用 (12件)
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引用文献:
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