特許
J-GLOBAL ID：200903011344381515
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 田中 正
, 森 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-123688
公開番号（公開出願番号）：特開2006-313905
出願日： 2006年04月27日
公開日（公表日）： 2006年11月16日
要約：
【課題】非極性の低表面張力液体を例えば投影システムと基板の間のスペースに局限することができる浸漬リソグラフィ装置を提供すること。【解決手段】リソグラフィ投影装置は、投影システムと基板の間のスペースに第1の液体を閉じ込めるために第2の液体の体積を使用する。実施例では、第1及び第2の液体は、実質的に混合することができず、それぞれ、シクロオクタン、デカリン、ビシクロヘキシル、エキソ-テトラハイドロ-ジシクロペンタジエン、及びシクロヘキサンのようなシクロアルカン、他の高指数炭化水素、パーフルオロ-N-メチルモルホリン及びパーフルオロE2のようなパーフルオロポリエーテル、パーフルオロヘキサンのようなパーフルオロアルカン、又はハイドロフルオロエーテル、及び水であってもよい。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
パターン形成された放射ビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
前記投影システムと前記基板の間のスペースに第1の液体を供給するように構成された液体供給システムと、を備えるリソグラフィ投影装置であって、前記液体供給システムが、
前記スペースを実質的に囲繞し、かつ前記スペースのまわりの体積に液体を閉じ込めるように適合された液体閉じ込め構造と、
前記第1の液体を前記スペースに供給するように整えられた第1の液体供給源と、
第2の液体を前記体積に供給するように整えられた第2の液体供給源と、を備えるリソグラフィ投影装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CA04
, 5F046CB25
