リソグラフィック装置及びデバイス製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 岩本行夫 , 吉田裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-247771
公開番号（公開出願番号）：特開2005-079589
出願日： 2004年08月27日
公開日（公表日）： 2005年03月24日
要約：

【課題】リソグラフィック投影装置及びデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】リソグラフィック投影装置において、投影システムの光学エレメントと基板の間の空間に、透明板で分離された第1の流体及び第2の流体が充填される。第1の流体及び第2の流体は、互いに異なる第1の屈折率及び第2の屈折率をそれぞれ有している。第1の流体は、基板と透明板の間の空間に提供され、基板の屈折率に類似した屈折率を有していることが好ましい。第2の流体は、透明板と光学エレメントの間の空間に提供され、光学エレメントの屈折率に類似した屈折率を有していることが好ましい。透明板は、第1の屈折率と第2の屈折率の間の第3の屈折率を有している。第3の屈折率は、第1の屈折率若しくは第2の屈折率と同じ屈折率にすることができる。デバイス製造方法には、光学エレメントと基板の間の空間に、屈折率が異なる少なくとも2種類の流体を充填するステップが含まれている。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

リソグラフィック投影装置であって、投影放射ビームを提供するべく構築され、かつ、配列された放射システムと、所望のパターンに従って前記投影ビームをパターン化するべく構築され、かつ、配列されたパターン化デバイスを支持するべく構築され、かつ、配列された支持構造と、基板を保持するべく構築され、かつ、配列された基板テーブルと、パターン化されたビームを前記基板の目標部分に投射するべく構築され、かつ、配列された投影システムと、前記投影システムの光学エレメントと前記基板の間に配置された透明板と、前記基板と前記透明板の間の第1の空間を充填する、第1の屈折率を有する第1の流体と、前記透明板と前記光学エレメントの間の第2の空間を充填する、第2の屈折率を有する第2の流体とを備えた装置。

IPC (1件)：

H01L21/027

FI (1件)：

H01L21/30 515D

Fターム (3件)：

5F046BA04 , 5F046DA07 , 5F046DA27

引用特許：

審査官引用 (8件)

液浸型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-121757 出願人：株式会社ニコン
特開昭62-121417
液浸系顕微鏡対物レンズ
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-196257 出願人：株式会社ニコン

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