シリル化用感光性組成物及び微細パターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-155820
公開番号（公開出願番号）：特開平8-190204
出願日： 1995年06月22日
公開日（公表日）： 1996年07月23日
要約：

【要約】【目的】酸素プラズマ耐性に優れたシリル化用の感光性組成物及び微細パターン形成方法を提供する。【構成】光塩基発生剤を含むレジスト膜2を形成した後、エキシマレーザ光4で露光して塩基発生領域2Aを形成する。次でシリル化用蒸気5で処理してシリル化領域2Bを形成したのち酸素プラズマでエッチングする。

請求項（抜粋）：

シリル化用の感光性組成物を被加工基板上に塗布し、プリベーク後露光し、つぎにシリル化剤を用いて液相、又は気相でシリル化を行いシリル化領域を形成し、さらに該シリル化領域をマスクとして前記感光性組成物層をガスプラズマによりエッチングする微細パターン形成方法において、前記感光性組成物中にシリル化を促進する化合物を含有させるか、又は前記シリル化剤として多官能性のシリル化剤を使用するか、又は前記シリル化剤として分子中に珪素原子を複数有するシリル化剤を使用することを特徴とする微細パターン形成方法。

IPC (5件)：

G03F 7/38 512 , G03F 7/075 501 , G03F 7/36 , H01L 21/027 , H01L 21/3065

FI (3件)：

H01L 21/30 502 R , H01L 21/30 566 , H01L 21/302 H

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平2-127645
特開平2-005060
特開平4-014049

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