特許

J-GLOBAL ID：200903011515244988

ギ酸分解用触媒、ギ酸の分解方法、水素製造方法、ギ酸製造および分解用装置、水素貯蔵および発生方法

発明者： 福住 俊一 ,  末延 知義 ,  小林 岳史
出願人/特許権者： 独立行政法人科学技術振興機構
代理人 (2件)： 辻丸 光一郎 ,  中山 ゆみ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-247549
公開番号（公開出願番号）：特開2009-078200
出願日： 2007年09月25日
公開日（公表日）： 2009年04月16日
要約：

【課題】高活性で、水素(H2)を安全に、効率良く、かつ低コストで提供することが可能なギ酸分解用触媒を提供する。【解決手段】該ギ酸分解用触媒は、シクロペンタジエン置換体からなる配位子ならびに窒素含有複素環式化合物からなる配位子を有したロジウム単核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩を含む。該ギ酸分解用触媒を用いると、ギ酸を原料として極めて高効率で繰り返し水素の発生(製造)を行うこともできる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

下記式(1)で表されるロジウム単核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩を含むギ酸分解用触媒。

IPC (5件)：

B01J 31/22 ,  C01B 3/22 ,  C01B 3/00 ,  C07C 51/00 ,  C07C 53/02

FI (5件)：

B01J31/22 M ,  C01B3/22 Z ,  C01B3/00 B ,  C07C51/00 ,  C07C53/02

Fターム (25件)：

4G140AA31 ,  4G140DA02 ,  4G140DB04 ,  4G140DC03 ,  4G169AA02 ,  4G169BA27A ,  4G169BA27B ,  4G169BC71A ,  4G169BC71B ,  4G169BE04A ,  4G169BE04B ,  4G169BE14A ,  4G169BE14B ,  4G169BE38A ,  4G169BE38B ,  4G169CB81 ,  4G169CC31 ,  4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AC46 ,  4H006BE20 ,  4H006BE41 ,  4H006BS10 ,  4H039CA65 ,  4H039CF30