特許

J-GLOBAL ID：200903011570826910

過弗化物処理の処理方法

発明者： 玉田 愼 ,  薮谷 隆
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-286055
公開番号（公開出願番号）：特開2003-088727
出願日： 2001年09月20日
公開日（公表日）： 2003年03月25日
要約：

【要約】【課題】製造事業者が支払う過弗化物の分解処理に要する費用を低減する。【解決手段】半導体製造事業者から依頼を受けた過弗化物処理事業者は半導体製造装置1にPFC分解処理装置17を接続して排出されるPFCの分解処理を行う。エッチャー2に供給されるPFCガスの流量が流量計10,11によって測定され、各々の積算値が積算計13A,13Bで算出される。PFCガス流量の各積算値はサーバ47よりインターネットを介して過弗化物処理事業者のサーバに伝えられ、記憶装置に記憶される。過弗化物処理事業者の情報端末は各積算値に基づいて、PFC分解処理装置17で分解処理されるPFCの処理量を推定する。推定されたその処理量に分解処理単価を掛けることによってPFCの処理費用が算出される。この処理費用は半導体製造事業者に連絡される。

請求項（抜粋）：

過弗化物処理業者が過弗化物を排気する製造設備に接続された前記過弗化物処理装置を用いて前記製造設備から排出された前記過弗化物の分解処理を行い、前記過弗化物処理装置で処理された前記過弗化物の処理量に応じて算出された前記過弗化物の処理費を前記製造装置の所有者に連絡することを特徴とする過弗化物処理の処理方法。

IPC (5件)：

B01D 53/68 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/70 ,  B01D 53/86 ,  G06F 17/60 106

FI (6件)：

G06F 17/60 106 ,  B01D 53/34 134 C ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 134 E ,  B01D 53/36 D ,  B01D 53/36 G

Fターム (25件)：

4D002AA02 ,  4D002AA22 ,  4D002AA23 ,  4D002AA26 ,  4D002AB01 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002BA05 ,  4D002CA01 ,  4D002CA07 ,  4D002DA02 ,  4D002DA03 ,  4D002DA12 ,  4D002DA35 ,  4D002EA02 ,  4D002FA10 ,  4D002HA02 ,  4D002HA10 ,  4D048AA11 ,  4D048AB03 ,  4D048AC08 ,  4D048BA03X ,  4D048BA38X ,  4D048BA41X ,  4D048CA01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• フッ素化合物含有ガスの処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-004349   出願人：株式会社日立製作所
• 公共サービスシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-102393   出願人：株式会社日立製作所
• 資源リサイクルおよび製品流通方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-007156   出願人：株式会社日立製作所