特許
J-GLOBAL ID：200903011655504580
粒子状物質の表面組成の蛍光X線分析方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-316647
公開番号（公開出願番号）：特開2000-146873
出願日： 1998年11月06日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：
【要約】【課題】 粒子状材料を製造する場合に必要な品質管理において、製品粒子の表面組成の平均的特性を評価する方法であり、なおかつEPMA分析等の従来法に比較して測定試料作製の前処理が簡単かつ迅速に行える方法を提供する。【解決手段】 本発明は、粒子状物質の表面の構成元素の組成を蛍光X線測定により分析する方法であり、かつ当該構成元素についてエネルギーの近接した特性X線を選択して測定することを特徴とする分析方法に関する。
請求項（抜粋）：
粒子状物質の表面の構成元素の組成を蛍光X線測定により分析する方法であり、かつ当該構成元素についてエネルギーの近接した特性X線を選択して測定することを特徴とする分析方法。
Fターム (11件)：
2G001AA01
, 2G001BA04
, 2G001CA01
, 2G001GA01
, 2G001LA06
, 2G001MA04
, 2G001NA06
, 2G001NA07
, 2G001NA16
, 2G001NA17
, 2G001RA10
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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