特許
J-GLOBAL ID：200903011842926820

シリカの製造方法、特定の細孔寸法及び/又は粒度分布を有するシリカ並びにそれらの特に重合体強化のための使用

発明者：
レミ ヴァレロ

レミ ヴァレロ について

, 
ジュリアン エルナンデス

ジュリアン エルナンデス について


出願人/特許権者：
ロディア・シミ

ロディア・シミ について


代理人 (5件)： 倉内 基弘 ,  風間 弘志 ,  遠藤 朱砂 ,  吉田 匠 ,  中島 拓
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-521148
公開番号（公開出願番号）：特表2005-500238
出願日： 2002年08月13日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：
本発明は、新規なシリカの製造方法並びに次の特性:40〜525m2/gのCTAB比表面積(SCTAB)、45〜550m2/gのBET比表面積(SBET)、少なくとも0.91の物体寸法分布幅Ld((d84-d16)/d50)(これは超音波再開後にXDC粒度分析によって測定される)及び比(V(d5-d50)/V(d5-d100)が少なくとも0.66であるような細孔寸法分布を有する非常に構造化されたシリカに関する。また、本発明は、前記シリカの重合体補強充填剤としての使用に関するものでもある。
請求項（抜粋）：
珪酸塩と酸性化剤とを反応させ、それによってシリカ懸濁液を得、次いでこの懸濁液を分離及び乾燥させることを含むタイプのシリカの製造方法において、 珪酸塩と酸性化剤との反応を (i)2〜5、好ましくは2.5〜5のpHを有する水性底部液を形成させ、 (ii)該底部液に珪酸塩及び酸性化剤を反応混合物のpHが2〜5、好ましくは2.5〜5に保持されるような方法で同時に添加し、 (iii)該酸性化剤の添加を停止させる一方で、珪酸塩を該反応混合物に7〜10、好ましくは7.5〜9.5の該反応混合物のpH値が得られるまで添加し続け、 (iv)該反応混合物に珪酸塩及び酸性化剤を該反応混合物のpHが7〜10、好ましくは7.5〜9.5に保持されるような方法で同時に添加し、 (v)珪酸塩の添加を停止させる一方で、該酸性化剤を該反応混合物に6以下の該反応混合物のpH値が得られるまで添加し続ける 連続工程に従って実施することを特徴とするシリカの製造方法。
IPC (1件)：
C01B33/193
FI (1件)：
C01B33/193
Fターム (24件)：
4G072AA25 ,  4G072AA28 ,  4G072BB05 ,  4G072CC01 ,  4G072CC14 ,  4G072EE01 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH17 ,  4G072HH18 ,  4G072HH19 ,  4G072HH21 ,  4G072JJ15 ,  4G072LL06 ,  4G072MM01 ,  4G072PP01 ,  4G072PP05 ,  4G072PP06 ,  4G072SS04 ,  4G072SS07 ,  4G072SS11 ,  4G072SS14 ,  4G072TT06 ,  4G072TT09
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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