特許
J-GLOBAL ID:200903011861174600
耐摩耗薄膜形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-158798
公開番号(公開出願番号):特開平11-001569
出願日: 1997年06月16日
公開日(公表日): 1999年01月06日
要約:
【要約】【課題】優れた保存性の下、製造コストが安価であるとともに量産性に優れ、かつ強固な密着力を有して優れた耐摩耗性を確実に発揮する耐摩耗薄膜を樹脂基板上に形成せんとする。【解決手段】樹脂基板1上に有機系耐摩耗重合硬化組成物と、シラノール基を有する無機-有機ハイブリッド材料(層状有機珪素ポリマ)からなる未硬化下地層2を形成し、未硬化下地層2上にシリコーン系耐摩耗熱重合硬化組成物からなる未硬化上層3を形成する。そして、未硬化下地層2を重合させるとともに未硬化上層3を重合させる。
請求項(抜粋):
樹脂基板上に有機系耐摩耗重合硬化組成物からなる未硬化下地層を形成する未硬化下地層形成工程と、該未硬化下地層上にシリコーン系耐摩耗熱重合硬化組成物からなる未硬化上層を形成する未硬化上層形成工程と、該未硬化下地層を重合させる下地層重合硬化工程と、該未硬化上層を重合させる上層重合硬化工程と、を有する耐摩耗薄膜形成方法において、前記未硬化下地層は、さらにシラノール基を有する無機-有機ハイブリッド材料を含有することを特徴とする耐摩耗薄膜形成方法。
IPC (7件):
C08J 7/04 CFH
, B05D 1/38
, B05D 5/00
, B05D 7/24 302
, B32B 7/02
, B32B 27/00 101
, B32B 27/18
FI (7件):
C08J 7/04 CFH M
, B05D 1/38
, B05D 5/00 C
, B05D 7/24 302 Y
, B32B 7/02
, B32B 27/00 101
, B32B 27/18 Z
引用特許:
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