特許
J-GLOBAL ID：200903011877849799

プリントされたはんだペーストの欠陥を検出するためのシステムおよび方法

発明者：
プリンス,デービッド・ピィ

プリンス,デービッド・ピィ について


出願人/特許権者：
スピードライン・テクノロジーズ・インコーポレイテッド

スピードライン・テクノロジーズ・インコーポレイテッド について


代理人 (6件)： 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-544032
公開番号（公開出願番号）：特表2007-514167
出願日： 2004年12月10日
公開日（公表日）： 2007年05月31日
要約：
基板上に堆積された物質の画像を分析する方法であって、画像は複数の画素を含み、この方法は、画像内で興味の対象となる領域を規定するステップと、第1および第2の垂直な軸に、興味の対象となる領域を関連付けるステップとを含み、画像内の1組の画素は、第1の軸に沿って位置し、この方法はさらに、興味の対象となる領域内の画素を、第1の軸にアライメントされかつ第2の軸に沿って突出する一次元アレイに変換するステップと、一次元アレイに少なくとも1つのしきい値を適用するステップとを含み、しきい値は、予め定められた限度に少なくとも部分的に基づく。
請求項（抜粋）：
基板上に堆積された物質の画像を分析する方法であって、前記画像は複数の画素を含み、前記方法は、 前記画像内で興味の対象となる領域を規定するステップと、 第1および第2の垂直な軸に、前記興味の対象となる領域を関連付けるステップとを含み、前記画像内の1組の画素は、前記第1の軸に沿って位置し、前記方法はさらに、 前記興味の対象となる領域内の画素を、前記第1の軸にアライメントされかつ前記第2の軸に沿って突出する一次元アレイに変換するステップと、 前記一次元アレイに少なくとも1つのしきい値を適用するステップとを含み、前記しきい値は、予め定められた限度に少なくとも部分的に基づく、方法。
IPC (6件)：
G01N 21/956 ,  H05K 3/00 ,  B23K 1/00 ,  G01B 11/24 ,  G01B 11/02 ,  G01B 11/28
FI (7件)：
G01N21/956 B ,  H05K3/00 D ,  B23K1/00 A ,  B23K1/00 330E ,  G01B11/24 K ,  G01B11/02 H ,  G01B11/28 H
Fターム (43件)：
2F065AA03 ,  2F065AA23 ,  2F065AA54 ,  2F065AA58 ,  2F065BB02 ,  2F065CC01 ,  2F065CC26 ,  2F065FF04 ,  2F065FF41 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ06 ,  2F065QQ07 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ32 ,  2F065QQ33 ,  2F065QQ36 ,  2F065QQ41 ,  2F065QQ42 ,  2F065QQ43 ,  2F065RR08 ,  2G051AA65 ,  2G051AB02 ,  2G051AB14 ,  2G051BA08 ,  2G051BA20 ,  2G051CA03 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EA17 ,  2G051EB01 ,  2G051EB02 ,  2G051EC02 ,  2G051EC03 ,  2G051EC05 ,  2G051ED01 ,  2G051ED07 ,  2G051ED09 ,  2G051ED21
引用特許：
審査官引用 (4件)
  • 特許第2556180号
  • ワーク表面検査方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-329384   出願人：本田技研工業株式会社
  • 特公平5-072961
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