特許
J-GLOBAL ID:200903011966010557

2-オキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン-3-オン誘導体及びその製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 後藤 幸久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-008716
公開番号(公開出願番号):特開2002-212174
出願日: 2001年01月17日
公開日(公表日): 2002年07月31日
要約:
【要約】【課題】 レジスト用樹脂等の原料などとして有用な新規な2-オキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン-3-オン誘導体を得る。【解決手段】 本発明の2-オキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン-3-オン誘導体は、下記式(1)【化1】(式中、Rは水素原子又はメチル基を示し、R1は炭化水素基又は-ORa基を示し、R2は水素原子、炭化水素基、-ORa基又は-CO2Ra基を示し、R3は水素原子又は炭化水素基を示し、R4は水素原子又は炭化水素基を示す。前記Raは水素原子又は炭化水素基を示す)で表される。
請求項(抜粋):
下記式(1)【化1】(式中、Rは水素原子又はメチル基を示し、R1は炭化水素基又は-ORa基を示し、R2は水素原子、炭化水素基、-ORa基又は-CO2Ra基を示し、R3は水素原子又は炭化水素基を示し、R4は水素原子又は炭化水素基を示す。前記Raは水素原子又は炭化水素基を示す)で表される2-オキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン-3-オン誘導体。
Fターム (2件):
4C037AA02 ,  4C037UA04
引用特許:
審査官引用 (2件)
引用文献:
審査官引用 (1件)
  • Studies on the synthesis of the spiroketal fragment of azadirachtin(I)

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