特許
J-GLOBAL ID：200903011973515052

管理システム及び管理方法

発明者：
愛内 隆志

愛内 隆志 について

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清田 誠

清田 誠 について

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上村 良一

上村 良一 について

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田中 道夫

田中 道夫 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 金本 哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-191926
公開番号（公開出願番号）：特開2003-005826
出願日： 2001年06月25日
公開日（公表日）： 2003年01月08日
要約：
【要約】【課題】 ベンダー側の管理者が,遠隔地にある塗布現像処理装置を適切かつ迅速に保守管理できるようにする。【解決手段】 工場2側に,複数の塗布現像処理装置M1〜Mnの情報を収集するAGC4を設ける。AGC4は,塗布現像処理装置M1〜MnとLAN9によって接続される。ベンダー6側には,ホストコンピュータ7が設けられ,ホストコンピュータ7は,工場2側のAGC4とインターネット8によって接続される。塗布現像処理装置3-1には,各ユニット等の情報を蓄積するデータボックスが設けられ,AGC4と通信可能とする。ホストコンピュータ7からの命令により,AGC4が定期的に塗布現像処理装置M1の蓄積情報を収集し,ホストコンピュータ7に送信することによって,ベンダー6側の管理者が詳しい情報を入手し,当該情報に基づいて塗布現像処理装置を保守管理する。
請求項（抜粋）：
基板の処理装置を管理する管理システムであって,前記処理装置の情報を蓄積する情報蓄積手段と,前記情報蓄積手段から前記情報を収集する情報収集装置と,インターネット又はイントラネットを介して前記情報収集装置の前記情報を入手し,当該情報に基づいて前記処理装置を管理する管理装置とを有することを特徴とする,管理システム。
IPC (5件)：
G05B 23/02 ,  G05B 23/02 301 ,  G05B 23/02 302 ,  G06F 17/60 138 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
G05B 23/02 V ,  G05B 23/02 T ,  G05B 23/02 301 V ,  G05B 23/02 302 Y ,  G06F 17/60 138 ,  H01L 21/30 562 ,  H01L 21/30 502 G
Fターム (9件)：
5F046AA28 ,  5H223AA05 ,  5H223BB01 ,  5H223CC08 ,  5H223DD03 ,  5H223DD05 ,  5H223DD07 ,  5H223DD09 ,  5H223EE06
引用特許：
審査官引用 (6件)
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