特許

J-GLOBAL ID：200903011996418569

パターン撮像装置およびパターン撮像方法

発明者： 千嶋 秀樹
出願人/特許権者： イビデン株式会社
代理人 (1件)： 岡戸 昭佳 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-341451
公開番号（公開出願番号）：特開2003-142799
出願日： 2001年11月07日
公開日（公表日）： 2003年05月16日
要約：

【要約】【課題】 ファイン化されたパターンを良好に撮像することができるパターン撮像装置およびパターン撮像方法を提供すること。【解決手段】 回路パターン撮像装置10は,検査カメラ1と,照明ロッド21,31と,集光レンズ22,32とを備えている。照明ロッド21と集光レンズ22とは一体となっており,ケーシング等が施され1台の照明部2となっている。また,照明ロッド31と集光レンズ32とは一体となっており,照明部3となっている。検査カメラ1はパターン面に対して垂直に配置されている。また,検査カメラ1と照明部2,3とがパターン面に対する垂線の方向から5〜20度の範囲内の傾斜角をもって配置されている。また,照明部2,3は,照明ロッド21,31とパターン面との間の位置に集光レンズ22,32が配置されている。

請求項（抜粋）：

対象物の表面のパターンを撮像するパターン撮像装置において,撮像箇所に光を照射する照明器と,撮像箇所を撮像する検査カメラとを有し,前記照明器と前記検査カメラとの一方が対象面に対して垂直に配置されており,前記照明器と前記検査カメラとの他方が対象面に対する垂線方向から5〜20度の範囲内の傾斜角をもって配置されていることを特徴とするパターン撮像装置。

IPC (4件)：

H05K 3/00 ,  G03B 15/00 ,  G03B 15/02 ,  H04N 5/225

FI (4件)：

H05K 3/00 Q ,  G03B 15/00 U ,  G03B 15/02 L ,  H04N 5/225 C

Fターム (6件)：

5C022AB15 ,  5C022AB43 ,  5C022AC26 ,  5C022AC41 ,  5C022AC54 ,  5C022AC78

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特公昭62-025221
  
• 半田付け外観検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-186920   出願人：いわき電子株式会社
• 特公昭62-025221
  
• 3次元物体の測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-164861   出願人：松下電器産業株式会社