特許
J-GLOBAL ID：200903012021687301

誘導結合型プラズマ発生システム用の複数コイル・アンテナ

発明者：
チェン, ジアン, ジェイ.

チェン, ジアン, ジェイ. について

, 
ヴィルトロップ, ロバート, ジー.

ヴィルトロップ, ロバート, ジー. について

, 
ウィッカー, トーマス, イー.

ウィッカー, トーマス, イー. について


出願人/特許権者：
ラム リサーチ コーポレーション

ラム リサーチ コーポレーション について


代理人 (1件)： 大塚 康徳 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-557486
公開番号（公開出願番号）：特表2002-519861
出願日： 1999年06月18日
公開日（公表日）： 2002年07月02日
要約：
【要約】高周波プラズマ複巻コイル・アンテナは、プラズマ反応器内で制御可能な均一な誘導結合を可能にする。一例としての実施形態によれば、複数のコイルがプラズマ・チャンバの誘電体ウィンドウ上に配置され、単一の高周波発生器によって電力供給され、単一の整合回路網によって調整される。各コイルは平面的なコイルか、または平面的なコイルと垂直方向に積み重なったらせん状のコイルの組合せのいずれかである。各コイルの入力端部は入力側調整コンデンサに接続され、出力端部は出力側調整コンデンサを介して接地に終端される。プラズマへの高周波の最大誘電結合の場所は、主として出力側コンデンサによって決定され、入力側コンデンサは、主として各コイルへの電流の大きさを調整するために使用される。各コイル内の電流の大きさおよび最大誘導結合の場所を調整することによって、異なる半径方向方位角領域内のプラズマ密度を変化させ制御することができ、したがって半径方向に方位角的に均一なプラズマを得ることができる。
請求項（抜粋）：
誘導結合型プラズマを発生させるための装置であって、 チャンバ中に電磁界経路を形成するウィンドウと該チャンバ中にプロセス・ガスを導入するように構成されたプロセス・ガス供給源とを有するプラズマ反応チャンバと、 前記チャンバのウィンドウに近接して配設された少なくとも第1および第2のアンテナ・セグメントを含む高周波アンテナと、 前記アンテナ・セグメントに結合され、前記アンテナ・セグメント中の高周波電流を共振させるように構成された高周波発生源と、を備え、 前記高周波電流によって誘導された電磁界は、前記ウィンドウを通過し、プロセス・ガスを励起してイオン化し、それによりチャンバ内にプラズマを発生させ、かつ、 前記第1のアンテナ・セグメントが、前記第2のアンテナ・セグメントを取り囲んでいることを特徴とする装置。
IPC (4件)：
H01L 21/3065 ,  H01J 37/32 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46
FI (4件)：
H01J 37/32 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 B
Fターム (11件)：
5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BB32 ,  5F045AA08 ,  5F045EF05 ,  5F045EH02 ,  5F045EH04 ,  5F045EH11 ,  5F045EH19 ,  5F045EM05
引用特許：
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM