特許
J-GLOBAL ID：200903012164968816

リソグラフィ装置の較正方法、リソグラフィ装置の較正に使用するマスク、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、該デバイス製造方法により製造されたデバイス

発明者：
ヨハンネス ヤコブス マテウス バセルマンス

ヨハンネス ヤコブス マテウス バセルマンス について


出願人/特許権者：
エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ

エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ について


代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-169286
公開番号（公開出願番号）：特開2003-022968
出願日： 2002年05月07日
公開日（公表日）： 2003年01月24日
要約：
【要約】【課題】 実際の処理条件を従来以上に代表する、焦点と線量との同時較正を可能にする方法を得ること。しかも現行の位置合わせ用具を使用すること。【解決手段】 リソグラフィ投影装置の較正に使用する位置合わせマーカーが、焦点感応部分と線量感応部分とを含むようにし、該部分のそれぞれが、周期的線構造の、対照的な背景を形成する部分に、複数ドットを有する区域を含むようにした。
請求項（抜粋）：
リソグラフィ投影装置を較正する方法であって、該リソグラフィ装置が、放射投影ビームを発生させる放射系と、目標パターンに従って投影ビームにパターン付与するパターニング装置を支持する支持構造物と、基板を保持する基板テーブルと、パターン付与したビームを基板のターゲット部分に結像させる投影系を含み、前記方法が、前記パターニング装置に設けた少なくとも1つの位置合わせマーカーを、前記基板テーブルが保持する基板の放射線感応層上に結像させる段階を含む形式のものにおいて、前記単数または複数の位置合わせマーカーが、少なくとも1つの格子を含み、かつ焦点感応部分と線量感応部分とを有しており、該焦点感応部分および線量感応部分がそれぞれ、対照的な背景上に複数のドットを有し、該複数のドットが、前記結像段階での焦点および線量の設定の変化により、前記単数または複数の格子の見かけ位置が変位することを特徴とする、リソグラフィ投影装置を較正する方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (4件)：
G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 516 D ,  H01L 21/30 515 F
Fターム (13件)：
5F046AA25 ,  5F046BA03 ,  5F046CB17 ,  5F046DA02 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DD03 ,  5F046EA03 ,  5F046EA09 ,  5F046EA10 ,  5F046EB02 ,  5F046EC03 ,  5F046EC05
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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