特許
J-GLOBAL ID：200903012262175832
正孔注入輸送層を有するデバイス、及びその製造方法、並びに正孔注入輸送層形成用インク
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
岸本 達人
, 山下 昭彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-109764
公開番号（公開出願番号）：特開2009-290205
出願日： 2009年04月28日
公開日（公表日）： 2009年12月10日
要約：
【課題】製造プロセスが容易でありながら、長寿命を達成可能なデバイスを提供する。【解決手段】基板上に対向する2つ以上の電極と、そのうちの2つの電極間に配置された正孔注入輸送層を有するデバイスであって、前記正孔注入輸送層が、モリブデン錯体の反応生成物又はタングステン錯体の反応生成物を含有することを特徴とする、デバイスである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上に対向する2つ以上の電極と、そのうちの2つの電極間に配置された正孔注入輸送層を有するデバイスであって、
前記正孔注入輸送層が、モリブデン錯体の反応生成物又はタングステン錯体の反応生成物を含有することを特徴とする、デバイス。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H05B33/22 D
, H05B33/10
, H05B33/14 A
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC21
, 3K107CC25
, 3K107CC45
, 3K107DD72
, 3K107DD73
, 3K107DD78
, 3K107DD79
, 3K107DD80
, 3K107DD84
, 3K107DD87
, 3K107GG06
, 3K107GG26
, 3K107GG28
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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