特許
J-GLOBAL ID：200903012271866481
薄膜形成装置および薄膜形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 毅巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-277816
公開番号（公開出願番号）：特開2004-119064
出願日： 2002年09月24日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：
【課題】薄膜を所望の形状および膜厚で形成する。【解決手段】薄膜形成装置1において、基板2に第1のシャドーマスク6を近接または接触させ、この第1のシャドーマスク6と一定の距離を保って第2のシャドーマスク7を配置する。有機薄膜形成時には、第1のシャドーマスク6は固定し、第1のシャドーマスク6の特定の開口部群に蒸着材料が到達するように開口部が設けられた第2のシャドーマスク7のみ移動させる。第1,第2のシャドーマスク6,7の位置関係を適宜変化させ、基板2上の所定の領域に所定の有機薄膜を形成する。この薄膜形成装置1では、第1のシャドーマスク6通過後の蒸着材料の回り込みが抑制され、また、第2のシャドーマスク7の移動に伴う形成済み有機薄膜の損傷や移着が防止される。これにより、基板2上の所定の領域に所定の形状、膜厚の有機薄膜が形成される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
蒸着源で蒸着材料を加熱気化させ、気化した前記蒸着材料を被形成物に堆積させて薄膜を形成する薄膜形成装置において、
前記蒸着材料が前記被形成物上の前記薄膜を形成すべき領域に堆積されるように形成された開口部群を有する第1のシャドーマスクと、
前記開口部群のうちの一部に前記蒸着材料が到達するように形成された開口部を有する第2のシャドーマスクと、
を有することを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (3件)：
H05B33/10
, C23C14/24
, H05B33/14
H05B33/10
, C23C14/24 G
, H05B33/14 A
3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4K029BA62
, 4K029BC07
, 4K029BD00
, 4K029CA01
, 4K029HA02
, 4K029HA03
