特許
J-GLOBAL ID：200903012330939242
光重合開始剤組成物および光重合性組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-142858
公開番号（公開出願番号）：特開平8-319305
出願日： 1995年06月09日
公開日（公表日）： 1996年12月03日
要約：
【要約】【目的】露光するとフリーラジカルを発生する光重合開始剤組成物、および該光重合開始剤組成物とエチレン性不飽和結合を有する化合物を含む光重合性組成物を提供する。特に、短時間に光硬化させることが要求される分野、例えば、光硬化性インキ、光硬化性塗料およびコート剤、光硬化型接着剤およびシール剤、光硬化型封止剤およびコンポジット剤、光硬化型インキジェット、光硬化性マイクロカプセル、感光性印刷版、フォトレジストインキ、プルーフ材料、光造形樹脂、ホログラム材料等の用途において好適に用いられる、光重合開始剤組成物および光重合性組成物を提供する。【構成】露光するとフリーラジカルを発生する、特定構造を有するスルホニウム有機ホウ素錯体またはオキソスルホニウム有機ホウ素錯体(A)と、励起状態において電子供与性と電子受容性を併せ持つ増感剤(B)からなる光重合開始剤組成物と、該光重合開始剤組成物にフリーラジカル開始付加重合が可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物(C)を配合してなる光重合性組成物。
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表されるスルホニウム有機ホウ素錯体またはオキソスルホニウム有機ホウ素錯体(A)と、励起状態において電子供与性と電子受容性を併せ持つ増感剤(B)からなることを特徴とする光重合開始剤組成物。【化1】〔式中、R1 は、ベンジル基、置換されたベンジル基、フェナシル基、置換されたフェナシル基、アリールオキシ基、置換されたアリールオキシ基、アルケニル基、置換されたアルケニル基から選ばれる基を表し、R2 およびR3 は、それぞれ独立に、R1 を構成できる基と同じ基か、またはアルキル基、置換されたアルキル基、アリール基、置換されたアリール基、アラルキル基、置換されたアラルキル基、アルキニル基、置換されたアルキニル基、脂環基、置換された脂環基、アルコキシ基、置換されたアルコキシ基、アルキルチオ基、置換されたアルキルチオ基、アミノ基、置換されたアミノ基、またはR2 とR3 が相互に結合した環状構造を表し、R4 は酸素原子または孤立電子対を表し、R5 ,R6 ,R7 およびR8 は、それぞれ独立に、アルキル基、置換されたアルキル基、アリール基、置換されたアリール基、アラルキル基、置換されたアラルキル基、アルケニル基、置換されたアルケニル基を表す(但し、R5 ,R6 ,R7 およびR8 の全てが、アリール基または置換されたアリール基となることはない。)〕
IPC (8件)：
C08F 2/50 MDN
, C08F 2/50 MDP
, C09D 11/00 PTE
, C09D 11/00 PTG
, G03F 7/00 501
, G03F 7/028
, G03F 7/029
, H01L 21/027
C08F 2/50 MDN
, C08F 2/50 MDP
, C09D 11/00 PTE
, C09D 11/00 PTG
, G03F 7/00 501
, G03F 7/028
, G03F 7/029
, H01L 21/30 502 R
