特許

J-GLOBAL ID：200903012335694620

短波長パルスレーザ走査装置

発明者： アレン,ポール シー. ,  ミロ,ユージン
出願人/特許権者： イーテック システムズ,インコーポレーテッド
代理人 (1件)： 内原 晋
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-527749
公開番号（公開出願番号）：特表2000-507003
出願日： 1997年12月10日
公開日（公表日）： 2000年06月06日
要約：

【要約】半導体マスク製造用または半導体ウェーハへの形状の直接描画用のレーザパターン発生器は、極微小形状の描画のために、高電力短波長(例えば263nm以下)パルス動作レーザ光源(40)を用いる。レーザパルス繰返し周波数は、種々の実施例において、描画中の形状の描画グリッドに同期させるかまたは非同期とする。

請求項（抜粋）：

レーザパターン発生器であって、 パルス状レーザビームを発生するパルス動作のレーザと、 前記パルス状レーザビームを受け前記パターンの区画のための電気信号で前記パルス状のレーザビームを変調するように配置した音響光学変調器と、 前記変調器からの被変調パルス状ビームを受け媒体を横断的にその被変調ビームで走査するように配置した走査器と、 前記ビームを前記媒体に集束するように前記走査器と前記媒体との間に配置した走査レンズとを含むレーザパターン発生器。

IPC (4件)：

G02B 26/10 ,  B23K 26/08 ,  H01L 21/027 ,  H01S 3/10

FI (5件)：

G02B 26/10 D ,  B23K 26/08 F ,  H01S 3/10 Z ,  H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 529

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭54-037472
  
• パターン露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-014792   出願人：ソニー株式会社
• 改良形レーザパターン発生装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平6-511192   出願人：イーテック・システムズ・インコーポレーテッド
• 特開昭54-037472