特許
J-GLOBAL ID:200903012395112728
基板保持用真空チャック
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
木下 茂
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-339546
公開番号(公開出願番号):特開2005-109091
出願日: 2003年09月30日
公開日(公表日): 2005年04月21日
要約:
【課題】 液晶ディスプレイ等に用いられる広面積の光透過性基板を露光処理する場合であっても、露光の乱反射を抑止でき、しかも、該基板を高い平面度状態に維持できる基板保持用真空チャックを提供する。【解決手段】 基板保持面側に互いに間隙をもって配列した多数の小突起状の保持ピン3を備え、前記保持ピン3の間隙をガス流路4とした基板保持用真空チャック1において、前記基板保持面のガス流路4の少なくとも底面部4aには、幅0.1〜1.0mmで深さ0.05〜0.5mmの溝もしくは該溝幅及び深さに対応するドット状凹部が前記溝幅の2〜5倍のピッチで形成されていると共に、少なくとも前記保持ピン3の頂面部及び前記ガス流路底面部4aの表面が、表面粗さRa=0.5〜1.5μmの範囲に形成されている。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板保持面側に互いに間隙をもって配列した多数の小突起状の保持ピンを備え、前記保持ピンの間隙をガス流路とした基板保持用真空チャックにおいて、
前記基板保持面のガス流路の少なくとも底面部には、幅0.1〜1.0mmで深さ0.05〜0.5mmの溝もしくは該溝幅及び深さに対応するドット状凹部が前記溝幅の2〜5倍のピッチで形成されていると共に、少なくとも、前記溝もしくは凹部の表面及び前記ガス流路底面部の表面が、表面粗さRa=0.5〜1.5μmの範囲に形成されていることを特徴とする基板保持用真空チャック。
IPC (3件):
H01L21/68
, G03F7/20
, H01L21/027
FI (3件):
H01L21/68 P
, G03F7/20 501
, H01L21/30 503C
Fターム (13件):
2H097DB14
, 2H097LA12
, 5F031CA05
, 5F031HA02
, 5F031HA03
, 5F031HA08
, 5F031HA14
, 5F031MA27
, 5F031PA14
, 5F031PA20
, 5F046CC08
, 5F046CC10
, 5F046CC11
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
露光装置の基板チャック
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-072688
出願人:ソニー株式会社
-
露光用保持治具
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-276827
出願人:東陶機器株式会社, 日本アイ・ティ・エフ株式会社
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