特許
J-GLOBAL ID：200903012412666341

リソグラフィ装置用照明器、そのような照明器を含むリソグラフィ装置、およびそのようなリソグラフィ装置を使う製造方法

発明者：
マルクス、オイルリンクス

マルクス、オイルリンクス について

, 
ヤン ヤープ、クリッケ

ヤン ヤープ、クリッケ について


出願人/特許権者：
エイエスエム リトグラフィー ベスローテン フエンノートシャップ

エイエスエム リトグラフィー ベスローテン フエンノートシャップ について


代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-377332
公開番号（公開出願番号）：特開2001-217188
出願日： 2000年12月12日
公開日（公表日）： 2001年08月10日
要約：
【要約】【課題】 部品数が少なく、嵩が低く、従って製造コストの安い、および短波長でも透過効率のよい照明器を備える、改良したリソグラフィ投影装置を提供すること。【解決手段】 リソグラフィ投影装置用の放射線ビームを制御するための照明器が複数の光学素子10およびこの光学素子10をこのビーム経路から出し入れするための交換器12を含む。この照明器の瞳平面16でのビームの強度分布は、この光学素子によって決る。この交換器が異なる光学素子を交換することによって、ズーム・アキシコンの必要なしに、異なる照度整定(強度分布)が得られるので、部品数および接合境界面数が減り、従って製造コストが低減し、透過効率が向上する。
請求項（抜粋）：
リソグラフィ投影装置であって:- 放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA、Ex、IL)で、平面でのこの投影ビームの強度分布を規定するための照明システム(IL)を含み、この照明システムが上記強度分布の内側および/または外側半径方向範囲を制御するための調整手段(AM)を含む放射線システム;- 所望のパターンに従ってこの投影ビームをパターニングするための、パターニング手段(MA、MT);- 基板(W)を保持するための基板テーブル(WT);- このパターン化したビームをこの基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL);を含む投影装置に於いて、上記調整手段が複数の光学素子(10)の少なくとも一つをこの投影ビーム経路から出し入れするための少なくとも一つの交換器(12)から成り、上記光学素子の各々が上記強度分布の少なくとも一つのパラメータを規定することを特徴とする装置。
IPC (7件)：
H01L 21/027 ,  G02B 3/00 ,  G02B 3/08 ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/32 ,  G02B 19/00 ,  G03F 7/20 521
FI (8件)：
G02B 3/00 A ,  G02B 3/08 ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/32 ,  G02B 19/00 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 527
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • 露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-334596   出願人：株式会社日立製作所
  • 投影露光装置用照明光学系
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-051609   出願人：オリンパス光学工業株式会社

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