特許
J-GLOBAL ID:200903012438727861

水素化処理触媒の再生方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 友松 英爾 ,  岡本 利郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-340833
公開番号(公開出願番号):特開2009-160498
出願日: 2007年12月28日
公開日(公表日): 2009年07月23日
要約:
【課題】使用済みの水素化処理触媒を未使用の水素化処理触媒の触媒活性と同等程度まで再生する水素化処理触媒の再生方法を提供する。【解決手段】使用済みの水素化処理触媒を焼成して該水素化処理触媒に付着する炭素質を除去し、焼成処理触媒を得る第1工程と、焼成処理触媒に活性金属成分を担持させる第2工程とを有する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
使用済みの水素化処理触媒を焼成し、該水素化処理触媒に付着する炭素質を除去して焼成処理触媒を得る第1工程と、該焼成処理触媒に活性金属成分を担持させる第2工程とを有することを特徴とする水素化処理触媒の再生方法。
IPC (9件):
B01J 23/94 ,  B01J 38/02 ,  B01J 37/08 ,  B01J 37/02 ,  B01J 38/12 ,  B01J 38/50 ,  B01J 23/88 ,  C10G 45/08 ,  C10G 45/06
FI (9件):
B01J23/94 M ,  B01J38/02 ,  B01J37/08 ,  B01J37/02 101A ,  B01J38/12 C ,  B01J38/50 ,  B01J23/88 M ,  C10G45/08 Z ,  C10G45/06 Z
Fターム (21件):
4G169AA03 ,  4G169AA10 ,  4G169BA01B ,  4G169BB04B ,  4G169BC59A ,  4G169BC59B ,  4G169BC68A ,  4G169BC68B ,  4G169CC02 ,  4G169CC05 ,  4G169DA05 ,  4G169FA08 ,  4G169FB14 ,  4G169FB30 ,  4G169FB57 ,  4G169FC08 ,  4G169GA01 ,  4G169GA06 ,  4G169GA10 ,  4H029CA00 ,  4H029DA00
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (3件)
引用文献:
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