特許

J-GLOBAL ID：200903012623768060

フォトマスク、露光方法および露光装置

発明者： 中杉 哲郎 ,  伊藤 正光 ,  阿部 秀昭
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-071602
公開番号（公開出願番号）：特開2000-267259
出願日： 1999年03月17日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
要約：

【要約】【課題】レジストの感度変化に対応した最適露光量を正確に求めることで、高精度の露光パターンを行うこと。【解決手段】レジストにチップパターンおよび感度測定用パターンを露光し(S1)、次にレジストの感度測定用パターンが露光された部分の膜厚を測定し(S2)、次に上記測定結果と予め求めておいたレジスト膜厚・露光量テーブルとから補正露光量を決定し(S3)、次にこの補正露光量でもって補正露光を行う(S4)。

請求項（抜粋）：

主パターンと、この主パターンが形成された領域とは別の領域に形成された補正露光用パターンとを有することを特徴とするフォトマスク。

IPC (4件)：

G03F 1/08 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 1/08 D ,  G03F 1/16 B ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 A ,  H01L 21/30 516 D ,  H01L 21/30 541 S ,  H01L 21/30 541 M

Fターム (14件)：

2H095BB10 ,  2H095BB11 ,  2H095BB32 ,  5F046AA08 ,  5F046AA09 ,  5F046AA22 ,  5F046BA07 ,  5F046DA02 ,  5F046DA26 ,  5F046DB14 ,  5F056AA17 ,  5F056AA31 ,  5F056CB11 ,  5F056CD11

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 荷電粒子線露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-220157   出願人：株式会社ニコン
• 特開平2-308518
  
• パターン測長方法と測長用パターンとパターン転写方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-126142   出願人：沖電気工業株式会社