パターン検査装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-265424
公開番号（公開出願番号）：特開2001-091228
出願日： 1999年09月20日
公開日（公表日）： 2001年04月06日
要約：

【要約】【課題】あらかじめ理想パターンを与えることなく、繰り返しパターンに存在する欠陥を検出するにあたって、ノイズの影響を低減させて安定した検出動作を行うことが可能なパターン検査装置を提供する。【解決手段】繰り返しパターンで構成される被検査画像Sに含まれる複数(3つ)の単位パターン(たとえばPA、PB、PC)に基づいて、理想パターンとしての参照画像PIを自動的に生成する。そして、この生成された理想パターンと被検査画像Sに含まれる単位パターンとを比較した結果を用いて欠陥を判定する。自動生成される理想パターンは、複数の単位パターンを用いて生成されているので、ノイズの影響が低減される。

請求項（抜粋）：

繰り返しパターンの欠陥検査を行うパターン検査装置であって、被検査画像を入力する被検査画像入力手段と、被検査画像に含まれる複数の単位パターンに基づいて理想パターンを生成する理想パターン生成手段と、前記生成された理想パターンと前記被検査画像に含まれる単位パターンとを比較した比較結果を用いて、前記被検査画像中の単位パターンの欠陥を判定する比較判定手段と、を備えることを特徴とするパターン検査装置。

IPC (6件)：

G01B 11/24 , G01B 11/30 , G01N 21/88 , G01N 21/956 , G06T 7/00 , H01L 21/66

FI (9件)：

G01B 11/30 Z , G01N 21/88 J , G01N 21/956 A , G01N 21/956 B , G01N 21/956 Z , H01L 21/66 J , G01B 11/24 F , G01B 11/24 K , G06F 15/62 405 A

Fターム (45件)：

2F065AA49 , 2F065AA56 , 2F065BB02 , 2F065BB18 , 2F065CC01 , 2F065CC19 , 2F065CC25 , 2F065DD04 , 2F065FF01 , 2F065FF04 , 2F065JJ02 , 2F065JJ25 , 2F065MM03 , 2F065PP12 , 2F065QQ04 , 2F065QQ11 , 2F065QQ25 , 2F065QQ26 , 2F065QQ31 , 2F065QQ42 , 2F065RR03 , 2G051AA51 , 2G051AA65 , 2G051AA90 , 2G051CA03 , 2G051DA07 , 2G051EA04 , 2G051EA08 , 2G051EA11 , 2G051EA25 , 2G051EB01 , 2G051EB09 , 2G051EC03 , 4M106AA01 , 4M106AA20 , 4M106CA39 , 4M106DB02 , 4M106DJ04 , 4M106DJ14 , 4M106DJ18 , 5B057AA03 , 5B057DA03 , 5B057DA07 , 5B057DB02 , 5B057DC32

引用特許：

審査官引用 (5件)

画像処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-075852 出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立マイコンシステム
規則的パターンの欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-149124 出願人：浜松ホトニクス株式会社
特開平1-173172

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