特許
J-GLOBAL ID:200903012638593134

ジイソプロピルベンゼンからジヒドロキシベンゼンとジカルビノールを製造するための改良された方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 丸山 敏之 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-533396
公開番号(公開出願番号):特表2002-504530
出願日: 1999年02月16日
公開日(公表日): 2002年02月12日
要約:
【要約】ジイソプロピルベンゼンから、ジヒドロキシベンゼンとジカルビノールを同時に製造する改良された方法を提供する。これらの方法は、直列に接続されてKarrカラム抽出器を操作することにより、DHPとHHPを連続的かつ同時に製造するものである。ジヒドロキシベンゼンの前駆体である非常に高純度のDHP含有溶液は、報告された方法に基づいて製造することができる。HHPからジカルビノールを安全かつ効率的に製造する方法についても開示している。
請求項(抜粋):
ジイソプロピルベンゼンからジヒドロキシベンゼンとジカルビノールを製造する方法であって、 (a) 塩基触媒の存在下でジイソプロピルベンゼンを酸化させて、ジイソプロピルベンゼンジヒドロペルオキシド(DHP)と、ジイソプロピルベンゼンヒドロキシヒドロペルオキシド(HHP)と、アセチルイソプロピルベンゼンヒドロペルオキシド(KHP)と、さらに、ジイソプロピルベンゼンモノヒドロペルオキシド(MHP)、イソプロピルベンゼンモノカルビノール(MCL)、ジイソプロピルベンゼンジカルビノール(DCL)、アセチルイソプロピルベンゼンモノカルビノール(KCL)及びその他の有機ペルオキシドからなる群から選択される1種又は2種以上を含む酸化物を得る工程; (b) 工程(a)の酸化物、苛性溶液及び有機溶媒を、第1のKarrカラムの中へ供給する工程; (c) 工程(b)の第1のKarrカラムの中に第1と第2の2つの流れを作り出す工程であって、第1の流れは苛性抽出物の流れであり、該流れは対向する流れにて抽出されたDHP、HHP及びKHPを含んでおり、第2の流れは苛性抽出物の流れであり、該流れは、MHP、MCL、DCL、KCL、その他の有機ペルオキシド、DIPB及び工程(b)の有機溶媒からなる群から選択される1又は2種以上を含んでおり、 (d) 工程(c)の第1の苛性抽出物の流れを約10〜30°Cの温度に冷却し、該冷却された流れと、有機溶媒と、アルカリ溶液とを第2Karrカラムの中へ供給する工程; (e) 第2Karrカラムの中に第1と第2の2つの流れを作り出す工程であって、第1の流れは低温抽出物の流れであり、該流れはHHP及びKHPを含む低温有機溶媒抽出物を含んでおり、第2の流れは低温抽出物の流れであり、該流れはDHPが濃縮された苛性剤を含んでおり; (f) 温度が約40〜85°Cの有機溶媒と、工程(e)のDHP濃縮苛性剤を、第3Karrカラムへ供給する工程; (g) 第3Karrカラムの中に第1と第2の2つの流れを作り出す工程であって、第1の流れは高温抽出物の流れであり、該流れは高純度DHPを含む高温有機溶媒溶液を含んでおり、第2の流れは高温抽出物の流れであり、該流れは低レベルの未抽出ヒドロペルオキシドを有する希薄苛性剤を含んでおり; (h) 工程(g)の高温有機溶媒溶液を濃縮し、濃縮物を連続式開裂反応器へ供給する工程であって、DHPは酸触媒の存在下で開裂され、対応するジヒドロキシベンゼン及びアセトンを含む溶液を作る工程; (i) 工程(e)の第1の低温抽出物の流れに存在するHHPを、大気圧下、水性条件下のアルカリ水溶液で処理することにより、対応するジカルビノールを得る工程、を有している方法。
IPC (6件):
C07C 37/58 ,  C07C 27/00 350 ,  C07C 29/132 ,  C07C 33/26 ,  C07C 39/08 ,  C07B 61/00 300
FI (6件):
C07C 37/58 ,  C07C 27/00 350 ,  C07C 29/132 ,  C07C 33/26 ,  C07C 39/08 ,  C07B 61/00 300
Fターム (18件):
4H006AA02 ,  4H006AC12 ,  4H006AC42 ,  4H006BA02 ,  4H006BA28 ,  4H006BA29 ,  4H006BA32 ,  4H006BA35 ,  4H006BA36 ,  4H006BA37 ,  4H006BA69 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BD33 ,  4H006BD52 ,  4H006BE30 ,  4H039CA60 ,  4H039CC30
引用特許:
審査官引用 (8件)
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