特許
J-GLOBAL ID:200903012650892376

高塩阻止率複合逆浸透膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 鈴木 崇生 ,  梶崎 弘一 ,  尾崎 雄三 ,  谷口 俊彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-206500
公開番号(公開出願番号):特開2006-026484
出願日: 2004年07月13日
公開日(公表日): 2006年02月02日
要約:
【課題】 高い塩阻止率を有すると共に、IPA等の非電解質有機物及びホウ素等の通常pH領域における非解離物質の分離性能に優れた複合逆浸透膜、及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 ポリアミド系スキン層と、これを支持する微多孔性支持体とからなる複合逆浸透膜を製造する方法において、2つ以上の反応性アミノ基を有する化合物を含んでなる水溶液Aを微多孔性支持体上に被覆して被覆層を形成し、次に、炭素数7以上のシクロパラフィン(CnH2n)を含有する有機溶媒中に2つ以上の反応性酸ハライド基を有する多官能酸ハロゲン化物を含んでなる溶液Bを、前記被覆層と接触させることを特徴とする複合逆浸透膜の製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
ポリアミド系スキン層と、これを支持する微多孔性支持体とからなる複合逆浸透膜を製造する方法において、2つ以上の反応性アミノ基を有する化合物を含んでなる水溶液Aを微多孔性支持体上に被覆して被覆層を形成し、次に、炭素数7以上のシクロパラフィン(CnH2n)を含有する有機溶媒中に2つ以上の反応性酸ハライド基を有する多官能酸ハロゲン化物を含んでなる溶液Bを、前記被覆層と接触させることを特徴とする複合逆浸透膜の製造方法。
IPC (5件):
B01D 71/56 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/82 ,  C08G 69/04 ,  C08J 7/04
FI (5件):
B01D71/56 ,  B01D69/12 ,  B01D71/82 510 ,  C08G69/04 ,  C08J7/04 Z
Fターム (44件):
4D006GA03 ,  4D006GA06 ,  4D006MA08 ,  4D006MA09 ,  4D006MB02 ,  4D006MB06 ,  4D006MC29 ,  4D006MC54X ,  4D006MC58 ,  4D006MC59 ,  4D006MC62X ,  4D006MC78X ,  4D006NA41 ,  4D006NA45 ,  4D006NA64 ,  4D006PA01 ,  4D006PB03 ,  4D006PC02 ,  4F006AA40 ,  4F006AA51 ,  4F006AB38 ,  4F006BA00 ,  4F006CA00 ,  4J001DA01 ,  4J001DB02 ,  4J001DB04 ,  4J001DC14 ,  4J001EB26 ,  4J001EB36 ,  4J001EB37 ,  4J001EB56 ,  4J001EB67 ,  4J001EC02 ,  4J001EC05 ,  4J001EC06 ,  4J001EC45 ,  4J001EC46 ,  4J001FB05 ,  4J001FC03 ,  4J001GA13 ,  4J001JA20 ,  4J001JB31 ,  4J001JB50 ,  4J001JC03
引用特許:
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (2件)

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