パタン形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-042826
公開番号（公開出願番号）：特開平5-241348
出願日： 1992年02月28日
公開日（公表日）： 1993年09月21日
要約：

【要約】【構成】エネルギ線の照射により、酸を発生する酸発生剤を含有したレジスト2でパタンを形成する。その上に、酸の増感反応を利用してネガ型に反応する化学増幅系レジスト4を被着する。この状態で熱処理を施す。この工程により、レジスト2中の酸がレジスト4に一定深さ拡散し、ネガ型に反応する。次に現像処理を行うことにより、ネガ型に反応していない余分なレジストは除去される。【効果】溝パタンやホールパタンの寸法を実効的に微細化することが可能であり、リソグラフィーの解像限界以下の微細パタンが形成できる。

請求項（抜粋）：

被加工基板上に、エネルギ線の照射により酸を発生する酸発生剤を含有したレジストパタンを形成する工程、前記酸の存在下で不溶化する樹脂を被着する工程、熱処理により前記酸発生剤を含有した前記レジストパタンから前記酸の存在下で不溶化する前記樹脂に前記酸を拡散する工程、現像により前記酸の拡散していない前記酸の存在下で不溶化する前記樹脂を除去する工程を少なくとも含むことを特徴とするパタン形成方法。

IPC (3件)：

G03F 7/26 511 , G03F 7/40 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 361 P , H01L 21/30 361 S

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平3-237458
特開平2-156244
レジストパタンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-249368 出願人：沖電気工業株式会社

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