特許
J-GLOBAL ID：200903012709920107

気化器及びこれを用いた半導体製造システム

発明者：
小島 康彦

小島 康彦 について

, 
森 宏幸

森 宏幸 について

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小野 弘文

小野 弘文 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について

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株式会社リンテック

株式会社リンテック について


代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-271920
公開番号（公開出願番号）：特開2001-148347
出願日： 2000年09月07日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
要約：
【要約】【課題】 液体原料を効率的に気化させることができる気化器を提供する。【解決手段】 圧送されてくる液体原料を減圧雰囲気中にて気化させる気化器26において、圧送されてくる液体原料30を一時的に貯留する液溜め室82と、減圧雰囲気になされた気化室64とを細孔66により連通して液体原料を気化室へ流通させる。細孔66の液溜め室側の液入口を弁体70により開閉する。弁体70の弁開度はアクチュエータ手段72により制御する。
請求項（抜粋）：
圧送されてくる液体原料を減圧雰囲気中にて気化させる気化器であって前記圧送されてくる液体原料を一時的に貯留する液溜め室と、減圧雰囲気になされた気化室と、前記液溜め室と前記気化室とを連通して前記液体原料を前記気化室へ流通させる細孔と、前記細孔の前記液溜め室側の液入口を開閉する弁体と、前記弁体の弁開度を制御するアクチュエータ手段とを備えたことを特徴とする気化器。
IPC (2件)：
H01L 21/205 ,  C23C 16/448
FI (2件)：
H01L 21/205 ,  C23C 16/448
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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