特許
J-GLOBAL ID:200903012728862231

有機フォトダイオード及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 山本 尚 ,  中山 千里
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-248675
公開番号(公開出願番号):特開2006-253632
出願日: 2005年08月30日
公開日(公表日): 2006年09月21日
要約:
【課題】 高品質で、簡易な工程で製造することができる有機フォトダイオード及びその製造方法を提供する。【解決手段】 有機フォトダイオード1では、ガラス基板10上に形成された透明陽極11aと、それに対向して形成された反射陰極11eとの間隙に、光吸収用組成物の層である複数の受光部11cと、透明陽極11a及び反射陰極11eを絶縁するとともに、隣り合う受光部11c間を絶縁する隔壁11dが形成されている。隔壁11dは、透明陽極11a及びその周囲を覆う絶縁層にインク溶液が塗布されて、インク溶液に含まれる有機溶媒によって絶縁層が溶解して、透明陽極11aと接触するような複数の溶解孔が形成されたものである。また、複数の受光部11cは、インク溶液に含まれる光吸収用組成物が、複数の溶解孔を充填したものである。【選択図】 図12
請求項(抜粋):
互いに対向して配置された一対の電極と、前記一対の電極のうちの一方の電極が形成された基板と、前記一対の電極の間隙に配置された光吸収用組成物の層である複数の受光部と、前記一対の電極の間隙に形成されて該一対の電極の間を絶縁するとともに、前記受光部と他の前記受光部とを絶縁する隔壁とを備えた有機フォトダイオードであって、 前記隔壁は、前記一方の電極及びその周囲を覆う絶縁層上の、該一方の電極に対応する位置に、該絶縁層を溶解する溶媒及び前記光吸収用組成物を含むインク溶液が塗布されて、該絶縁層の溶解後に該インク溶液の溶媒を蒸発させて、該一方の電極と接触するような空間である複数の溶解孔が形成されたものであり、 前記複数の受光部は、前記複数の溶解孔に前記インク溶液の光吸収用組成物を充填させたものであることを特徴とする有機フォトダイオード。
IPC (2件):
H01L 51/42 ,  H01L 27/146
FI (2件):
H01L31/08 T ,  H01L27/14 C
Fターム (26件):
4M118AA01 ,  4M118AA05 ,  4M118AB01 ,  4M118BA05 ,  4M118CA06 ,  4M118CA11 ,  4M118CB05 ,  4M118EA01 ,  4M118FB09 ,  4M118FB13 ,  4M118FB16 ,  4M118FB19 ,  4M118FB24 ,  4M118HA26 ,  5F088AA11 ,  5F088AB11 ,  5F088BA18 ,  5F088CB20 ,  5F088DA05 ,  5F088EA04 ,  5F088EA08 ,  5F088FA04 ,  5F088FA05 ,  5F088GA02 ,  5F088KA03 ,  5F088KA08
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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引用文献:
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