特許
J-GLOBAL ID:200903012775766577

ダイオキシン類除染方法及びダイオキシン類処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 間山 進也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-270251
公開番号(公開出願番号):特開2001-087411
出願日: 1999年09月24日
公開日(公表日): 2001年04月03日
要約:
【要約】【課題】 作業上の安全確保及び汚染拡大防止対策として用いることが可能なダイオキシン類除染方法及びダイオキシン類処理装置を提供する。【解決手段】 ダイオキシン類により汚染された構造物を周囲環境から遮断し、構造物のダイオキシン類により汚染された内面に除染剤を噴霧する工程101と、除染剤に溶解したダイオキシン類化合を光触媒を用いて光分解する工程102,103と、光分解後の除染剤を内面に再度噴霧させるために再循環させる工程105とを含むことを特徴とする。
請求項(抜粋):
ダイオキシン類により汚染された構造物を周囲環境から遮断し、前記構造物のダイオキシン類により汚染された部分に除染剤を噴霧して除染剤に前記ダイオキシン類を溶解させ、前記除染剤中に含まれる前記ダイオキシン類を光分解処理し、光分解処理後の前記除染剤を前記部分に再度噴霧させるために再循環させることを特徴とするダイオキシン類除染方法。
IPC (5件):
A62D 3/00 ,  B09B 3/00 ,  E04G 23/08 ,  F23G 5/44 ZAB ,  F23J 3/00
FI (5件):
A62D 3/00 ,  E04G 23/08 ,  F23G 5/44 ZAB Z ,  F23J 3/00 Z ,  B09B 3/00 304 G
Fターム (20件):
2E176AA00 ,  2E176BB05 ,  2E191BA12 ,  2E191BC01 ,  2E191BC05 ,  2E191BD11 ,  2E191BD13 ,  2E191BD17 ,  3K061QA09 ,  3K061QA16 ,  3K065BA01 ,  3K065HA01 ,  4D004AA31 ,  4D004AA50 ,  4D004AB07 ,  4D004CA36 ,  4D004CA40 ,  4D004CC03 ,  4D004CC04 ,  4D004CC09
引用特許:
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (12件)
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