特許
J-GLOBAL ID：200903012910860775
研磨装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-332019
公開番号（公開出願番号）：特開平11-156711
出願日： 1997年12月02日
公開日（公表日）： 1999年06月15日
要約：
【要約】【課題】 ウエハの表面を高平坦性、高均一性を保って研磨し、研磨中に研磨形状の修正を可能とする。【解決手段】 インデックステーブルとポリッシングヘッド18との組合せを有している。インデックステーブルは、研磨すべきウエハを吸着して上向きに保持して研磨ステーションへ向けて転回送りを与える。ポリッシングヘッド18は、加圧シリンダ21とベースプレート22との組合せであり、加圧シリンダ21はキャリアに一定姿勢で与えられ、ベースプレート22は研磨布24を支えて加圧シリンダ21に三次元方向に揺動可能に組付けられているものである。研磨布24はウエハ上に接触し、高速回転してウエハ表面を研磨する。
請求項（抜粋）：
テーブルと、ポリッシングヘッドとを有する研磨装置であって、テーブルは、研磨すべき基板を定位置に上向きに保持するものであり、ポリッシングヘッドは、下面の少なくとも一部に研磨面を有し、研磨面は、テーブル上の基板を研磨する面であり、研磨パッドが貼付けられ、三次元方向に揺動可能であることを特徴とする研磨装置。
IPC (2件)：
B24B 37/04
, H01L 21/304 321
B24B 37/04 G
, H01L 21/304 321 E
