特許

J-GLOBAL ID：200903012914076637

処理装置

発明者： 太田 義治
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-046329
公開番号（公開出願番号）：特開2002-252156
出願日： 2001年02月22日
公開日（公表日）： 2002年09月06日
要約：

【要約】【課題】 フットプリントを縮小した処理装置を提供する。【解決手段】 被処理体に対して液処理を含む一連の処理を施す処理装置の一実施形態であるレジスト塗布・現像処理システム100において、被処理体である基板Gに所定の液処理を施す複数の液処理ユニットを有する液処理部を上下二段に仕切られた下段の処理ブロック11a・11bに設け、基板Gに所定の熱的処理を施す複数の熱処理ユニットを有する熱的処理部を上段の処理ブロック11c・11dに設けた。

請求項（抜粋）：

被処理体に対して液処理を含む一連の処理を施す処理装置であって、被処理体に所定の液処理を施す複数の液処理ユニットを有する液処理部と、被処理体に所定の熱的処理を施す複数の熱処理ユニットを有する熱的処理部と、を具備し、上下二段に仕切られた下段に前記液処理部が配置され、上段に前記熱的処理部が配置されていることを特徴とする処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  B05C 9/14 ,  B05C 11/00 ,  B05C 11/08 ,  H01L 21/68

FI (5件)：

B05C 9/14 ,  B05C 11/00 ,  B05C 11/08 ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 562

Fターム (40件)：

4F042AA02 ,  4F042AA07 ,  4F042BA08 ,  4F042DA01 ,  4F042DA09 ,  4F042DB01 ,  4F042DB41 ,  4F042DE01 ,  4F042DE03 ,  4F042DE06 ,  4F042DF01 ,  4F042DF25 ,  4F042DF28 ,  4F042DF32 ,  4F042DF34 ,  4F042EB09 ,  4F042ED03 ,  5F031CA05 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031FA14 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031GA53 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA06 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031NA03 ,  5F031NA16 ,  5F031PA11 ,  5F031PA23 ,  5F046HA02 ,  5F046JA22 ,  5F046KA10 ,  5F046LA18

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 基板処理装置および方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-252474   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平2-079413
  
• 基板処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-141557   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (1件)

• 基板処理装置および方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-252474   出願人：大日本スクリーン製造株式会社