ケイ素含有感光性樹脂及びこれを含有する組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：成瀬勝夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-122672
公開番号（公開出願番号）：特開2000-313744
出願日： 1999年04月28日
公開日（公表日）： 2000年11月14日
要約：

【要約】【課題】多層レジスト法用のレジスト材やPDP障壁形成用レジスト材として優れた性能を示すケイ素含有感光性樹脂を提供すること、特に、耐プラズマ性(耐O2-RIE)性に優れると共に、パターンを形成したとき、高いアスペクト比を得ることができるレジスト材を提供すること。【解決手段】ポリオルガノシルセスキオキサンの分子鎖末端の全部又は一部に、下記一般式で表わされるトリオルガノシリル基が結合していることを特徴とするケイ素含有感光性樹脂並びにこのケイ素含有感光性樹脂に光増感剤を配合したことを特徴とする感光性樹脂組成物である。Ar-OOC-R1(COOR2)n-COR3-Si(CH3)2-(但し、式中Arはo-ニトロベンジル基を、R1は多価カルボン酸の残基を、R2はH又はo-ニトロベンジル基を、R3は2価の有機基を示す。)

請求項（抜粋）：

ポリオルガノシルセスキオキサンの分子鎖末端の全部又は一部に、下記一般式(1)で表わされるトリオルガノシリル基が結合していることを特徴とするケイ素含有感光性樹脂。 Ar-OR-Si(CH3)2- (1)(但し、式中Arはo-ニトロベンジル基を示し、Rは2価の有機基を示す。)

IPC (3件)：

C08G 77/388 , C08L 83/08 , G03F 7/075 511

FI (3件)：

C08G 77/388 , C08L 83/08 , G03F 7/075 511

Fターム (21件)：

2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BF30 , 2H025CB33 , 4J002CP031 , 4J002EV296 , 4J002GP03 , 4J035BA12 , 4J035CA09M , 4J035CA091 , 4J035CA10M , 4J035CA101 , 4J035CA18M , 4J035CA181 , 4J035FB01 , 4J035LA03 , 4J035LB16

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-025530
シリコーン化合物及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-060904 出願人：新日鐵化学株式会社, 新日本製鐵株式会社
特開平4-268378

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