特許

J-GLOBAL ID：200903012982716172

薬液注入装置および除菌器並びに除鉄除菌システム

発明者： 渡部 義人 ,  中島 忠克 ,  笹尾 桂史 ,  木村 秀行
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 角田 芳末
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-069733
公開番号（公開出願番号）：特開2006-289352
出願日： 2006年03月14日
公開日（公表日）： 2006年10月26日
要約：

【課題】例えば飲料水のような低濃度の次亜塩素酸ナトリウム水溶液を生成する場合に,高精度の濃度制御を可能とする。【解決手段】原水に薬液(次亜塩素酸ナトリウム)を注入して薬液の希薄溶液を生成する薬液注入装置において,原水の流路を分流流路3と4に分流し,この分流流路3,4の一方の流路3に,薬液を注入する薬液注入部5と,この薬液注入部5の下流における薬液濃度を検知する濃度検知手段8とを設け,この濃度検知手段8の下流側において分流流路3と4を合流させる構造を有し,濃度検知手段8で検出された薬液濃度に基いて,薬液注入部5から注入する薬液の量を調整し,あるいは分流流路3と4の分流率を調整して,薬液濃度を制御する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

原水に薬液を注入して薬液の希薄溶液を生成する薬液注入装置において, 原水の流路を少なくとも2以上に分流し,該分流流路の少なくとも1の流路に,薬液を注入する薬液注入部と,該薬液注入部の下流における薬液濃度を検知する濃度検知手段とを設け,該濃度検知手段の下流側において前記分流流路を合流させる構造を有し, 前記濃度検知手段で検知された薬液濃度に基いて,前記薬液注入部から注入する薬液の量を調整し,薬液濃度を制御するようにしたことを特徴とする薬液注入装置。

IPC (2件)：

C02F 1/50 ,  C02F 1/76

FI (9件)：

C02F1/50 510A ,  C02F1/50 520B ,  C02F1/50 531P ,  C02F1/50 540B ,  C02F1/50 550C ,  C02F1/50 550H ,  C02F1/50 550L ,  C02F1/76 A ,  C02F1/76 Z

Fターム (10件)：

4D050AA02 ,  4D050AB06 ,  4D050AB55 ,  4D050BB06 ,  4D050BD02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA12 ,  4D050CA16

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 殺菌水生成方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-140974   出願人：東亜ディーケーケー株式会社, サイテック株式会社
• 除菌装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-173542   出願人：三菱電機株式会社, 株式会社川本製作所