特許
J-GLOBAL ID:200903012993329154

調合薬ディスペンサーを交互にレーザ処理するための装置および方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 浅村 皓 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-512062
公開番号(公開出願番号):特表2003-505248
出願日: 2000年07月20日
公開日(公表日): 2003年02月12日
要約:
【要約】調合薬ディスペンサーのバッチをレーザ処理するための方法および装置を提供する。未処理ディスペンサーの連続するバッチを、関連する交互固定レーザ処理ステーションの中へ進む交互バッチ搬送体に載荷する。この多重固定レーザ処理ステーションは、単一レーザ源がこれらの関連する交互レーザ処理ステーションに配置されたディスペンサーの交互バッチを処理するために作動できる隣接領域内に位置する。レーザ制御器がこのレーザビームを、各レーザ処理ステーション内で交互に作動し且つ、各レーザ処理ステーション内で、そこに配置されたディスペンサーのバッチの各ディスペンサーを処理するように導く。前進調整器がこれらのバッチ搬送体を、このレーザ制御器の活動と協調して、一つのバッチの未処理ディスペンサーを一つのレーザ処理ステーション内の適所に固定して保持し(この一つのレーザ処理ステーション内でレーザを作動させながら)、その時間中にもう一つのバッチの未処理ディスペンサーをもう一つのレーザ処理ステーション内へ進めるという反復交互サイクルで進める。この様にして、未処理ディスペンサーのバッチを実質的に連続的に一つまたはもう一つのレーザ処理ステーションに配置し、このレーザが最適には実質的に連続的に作動して一つまたはもう一つのレーザ処理ステーション内のディスペンサーを処理する。
請求項(抜粋):
調合薬ディスペンサーをレーザエネルギーのビームで処理するための装置であって: 各々が未処理ディスペンサーのバッチのレーザ処理のための場所を提供する、少なくとも一つおよびもう一つのレーザ処理ステーション; 前記一つおよびもう一つのレーザ処理ステーションに配置されたディスペンサーを処理するためにレーザエネルギーのビームを提供するレーザ源; このレーザビームを前記一つおよび上記もう一つのレーザ処理ステーションで交互に作動するように、かつ、各レーザ処理ステーションでの作動中そこに配置されたディスペンサーのバッチ内の各ディスペンサーを処理するように導くレーザビーム制御器; 各々一連の未処理ディスペンサーの連続バッチを前記一つまたはもう一つのレーザ処理ステーションに運び込み、レーザ処理中、未処理ディスペンサーの各バッチを上記レーザ処理ステーション内に保持しおよび処理したディスペンサーの各バッチを上記レーザ処理ステーションから運び出すようになっている、少なくとも一つおよびもう一つバッチ搬送体;並びに 該一つおよびもう一つのバッチ搬送体の運動を前記レーザビーム制御器の活動と調整して、未処理ディスペンサーのバッチを実質的に連続的に一つまたはもう一つレーザ処理ステーションに配置し、前記レーザエネルギーのビームが前記一つまたはもう一つレーザ処理ステーションでその中のディスペンサーのバッチの各ディスペンサーを処理するために作動するようにするための前進調整器を含む装置。
Fターム (4件):
4E068CA14 ,  4E068CD01 ,  4E068CE04 ,  4E068DA00
引用特許:
審査官引用 (4件)
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