特許
J-GLOBAL ID：200903012995125025

フレキシブル光導波路およびその製造方法

発明者：
平野 光樹

平野 光樹 について

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牛渡 剛真

牛渡 剛真 について

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田尻 浩三

田尻 浩三 について

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牧野 朋未

牧野 朋未 について


出願人/特許権者：
日立電線株式会社

日立電線株式会社 について

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株式会社日本触媒

株式会社日本触媒 について


代理人 (4件)： 植木 久一 ,  菅河 忠志 ,  二口 治 ,  伊藤 浩彰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-117501
公開番号（公開出願番号）：特開2009-265519
出願日： 2008年04月28日
公開日（公表日）： 2009年11月12日
要約：
【課題】接着剤などを用いることなく、基板上に光導波路フィルムを直接形成することが可能であり、基板を含めて光導波路フィルムの可撓性および基板と光導波路フィルムとの接着性に優れたフレキシブル光導波路、ならびに、その簡便な製造方法を提供すること。【解決手段】フレキシブル光導波路は、基板上に順次形成された下部クラッド層、コア層および上部クラッド層を有しており、下部クラッド層を形成する基板の表面の算術平均粗さRaが0.03μm以上である。このフレキシブル光導波路は、下部クラッド層を形成する基板の表面に、砥石による物理処理またはコロナ放電による化学処理を施した後、この表面上に下部クラッド層、コア層および上部クラッド層を順次形成することにより製造される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上に形成された下部クラッド層と、該下部クラッド層上に形成されたコア層と、該コア層を埋め込むように該下部クラッド層および該コア層上に形成された上部クラッド層とを有するフレキシブル光導波路であって、該下部クラッド層を形成する該基板の表面の算術平均粗さRaが0.03μm以上であることを特徴とするフレキシブル光導波路。
IPC (1件)：
G02B 6/13
FI (1件)：
G02B6/12 M
Fターム (26件)：
2H147BA10 ,  2H147EA16A ,  2H147EA16B ,  2H147EA16C ,  2H147EA17A ,  2H147EA17B ,  2H147EA17C ,  2H147EA18A ,  2H147EA18B ,  2H147EA18C ,  2H147EA19A ,  2H147EA19B ,  2H147EA19C ,  2H147EA20A ,  2H147EA20B ,  2H147EA20C ,  2H147EA43A ,  2H147EA43B ,  2H147FA15 ,  2H147FA17 ,  2H147FA25 ,  2H147FA29 ,  2H147FB01 ,  2H147FB04 ,  2H147FD08 ,  2H147FE02
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (1件)

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