特許
J-GLOBAL ID：200903013040240012
電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
小川 勝男
, 田中 恭助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-296138
公開番号（公開出願番号）：特開2004-134503
出願日： 2002年10月09日
公開日（公表日）： 2004年04月30日
要約：
【課題】マルチ電子ビーム描画装置において、描画偏向距離よりも大きなパターン計測を可能にするマーク位置検出方法を実現し、それを用いた電子ビーム描画技術を提供する。【解決手段】パターン計測用の偏向器(400)を別途設けることにより、個々の描画偏向距離以上の走査距離でパターン計測を行う。または、複数の電子ビームの走査開始時刻をずらして順次走査することにより、個々の描画偏向距離以上の走査距離でパターン計測を行う。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
所定の間隔で配列された複数の電子ビームを用いて試料に形成されたパターンを照射する手段と、前記複数の電子ビームから前記試料に照射する電子ビームを選択できる選択手段と、前記複数の電子ビームのうち選択された複数の前記電子ビームを前記試料に対して走査方向に略同一の変位量だけ変位させる変位手段と、前記変位手段によって前記電子ビームを走査方向に変位させた際に前記パターンから放出される反射電子もしくは2次電子もしくは透過電子を検出する電子検出手段とを有し、前記変位手段による前記変位量と前記電子検出手段の検出結果との関係に基づいて前記パターンの位置を計測するよう構成したことを特徴とする電子ビーム描画装置。
IPC (5件)：
H01L21/027
, G03F7/20
, G03F9/00
, H01J37/147
, H01J37/305
H01L21/30 541K
, G03F7/20 504
, G03F9/00 H
, H01J37/147 C
, H01J37/305 B
, H01L21/30 541W
2H097AA03
, 2H097CA16
, 2H097KA13
, 2H097KA15
, 2H097KA20
, 2H097LA10
, 5C033GG03
, 5C033NN01
, 5C033NN02
, 5C033NN03
, 5C034BB04
, 5C034BB07
, 5F056AA16
, 5F056AA33
, 5F056BD05
, 5F056CB15
, 5F056EA06
