特許
J-GLOBAL ID：200903013045884767

真空成膜装置及び成膜方法

発明者：
山川 健司

山川 健司 について


出願人/特許権者：
新明和工業株式会社

新明和工業株式会社 について


代理人 (2件)： 角田 嘉宏 ,  古川 安航
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-294541
公開番号（公開出願番号）：特開2004-131749
出願日： 2002年10月08日
公開日（公表日）： 2004年04月30日
要約：
【課題】製作が困難な特定の形状・寸法をなす従来の補正部材を必要とせずに、均一な膜厚を有する膜を形成することができる真空成膜装置及び成膜方法の提供。【解決手段】基材ホルダ4及びルツボ6の間に補正部材9を配置し、成膜中に該補正部材9を基材4及びルツボ6間を横切るように移動させる。また、該補正部材9を用いずに成膜した場合に膜厚が大きくなる傾向があるところでは、補正部材9を低速で移動させ、膜厚が小さくなる傾向があることろでは、補正部材9を高速で移動させる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
内部空間を真空排気することができる真空チャンバと、 膜が形成される基材を保持すべく、前記真空チャンバ内に配置された基材ホルダと、 前記基材に成膜される成膜材料を保持すべく、前記真空チャンバ内にて前記基材ホルダに対向配置されたルツボと、 前記真空チャンバ内に配置されて基材上に形成される膜の膜厚を補正するための補正部材と、 該補正部材を駆動させる駆動部と を備え、 前記補正部材は、前記基材ホルダ及びルツボの間を横切って移動するように前記駆動部により駆動されるべくなしてある ことを特徴とする真空成膜装置。
IPC (2件)：
C23C14/24 ,  G02B1/11
FI (3件)：
C23C14/24 U ,  C23C14/24 G ,  G02B1/10 A
Fターム (7件)：
2K009AA02 ,  2K009DD09 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DA02 ,  4K029DA12 ,  4K029EA01
引用特許：
審査官引用 (4件)
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