特許
J-GLOBAL ID:200903013050104397
樹脂金属積層構造体およびその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
高橋 敬四郎
, 来山 幹雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-327421
公開番号(公開出願番号):特開2004-162098
出願日: 2002年11月11日
公開日(公表日): 2004年06月10日
要約:
【課題】樹脂表面の粗化処理や中間層の形成を行うことなく樹脂材料と金属層との密着性が高い積層構造体を製造する方法およびその積層構造体を提供する。【解決手段】樹脂金属積層構造体の製造方法は、(a)表面に樹脂が露出した基板の該表面を、窒素プラズマに晒す工程と、(b)前記窒素プラズマに晒された後の前記基板の表面上に、金属層を形成する工程とを有し、前記工程(a)において、前記窒素プラズマに晒した後に、前記基板の樹脂表面をX線光電子分光分析することによって検出された窒素(N1s)ピークの積分強度が、前記窒素プラズマに晒す前に、前記基板の樹脂表面をX線光電子分光分析することによって検出された窒素(N1s)ピークの積分強度より大きくなる条件で窒素プラズマ処理を行う。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
(a)表面に樹脂が露出した基板の該表面を、窒素プラズマに晒す工程と、
(b)前記窒素プラズマに晒された後の前記基板の表面上に、金属層を形成する工程と
を有し、
前記工程(a)において、前記窒素プラズマに晒した後に、前記基板の樹脂表面をX線光電子分光分析することによって検出された窒素(N1s)ピークの積分強度が、前記窒素プラズマに晒す前に、前記基板の樹脂表面をX線光電子分光分析することによって検出された窒素(N1s)ピークの積分強度より大きくなる条件で窒素プラズマ処理を行う樹脂金属積層構造体の製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (15件):
4K029AA11
, 4K029BA07
, 4K029BA08
, 4K029BA12
, 4K029BD00
, 4K029CA03
, 4K029DD05
, 4K029FA05
, 5E343AA02
, 5E343AA12
, 5E343AA18
, 5E343BB24
, 5E343BB67
, 5E343EE36
, 5E343GG02
引用特許: