特許
J-GLOBAL ID：200903013055692564
製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-034491
公開番号（公開出願番号）：特開2004-263299
出願日： 2004年02月12日
公開日（公表日）： 2004年09月24日
要約：
【課題】 本発明は、EL材料の利用効率を高め、且つ、EL層成膜の均一性やスループットの優れた成膜装置の一つである蒸着装置及び蒸着方法を提供するものである。【解決手段】本発明は、成膜室101内において、蒸着材料が封入された容器(ルツボ)106を複数個設置した蒸着源ホルダ104をX方向にのみ移動または往復させ、基板100を一定間隔で移動しながら蒸着を行うことを特徴とする。また、複数個設置した蒸着源ホルダ104において、隣りあう蒸着ホルダの膜厚計は交互に配置する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板に対向して配置した蒸着源から蒸着材料を蒸着させて前記基板上に成膜を行う成膜装置であり、
前記基板が配置される成膜室には、蒸着源と、該蒸着源をX方向に移動する手段と、基板をY方向に移動する手段とを有し、
前記蒸着源をX方向に移動させた後、前記基板をY方向に一定間隔で移動させることを繰り返して成膜を行うことを特徴とする成膜装置を有する製造装置。
IPC (3件)：
C23C14/24
, H05B33/10
, H05B33/14
C23C14/24 C
, H05B33/10
, H05B33/14 A
3K007AB17
, 3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4K029BC07
, 4K029BD00
, 4K029CA01
, 4K029DB14
, 4K029DB15
, 4K029EA01
, 4K029KA09
