特許
J-GLOBAL ID：200903013067341317

ウエハの表面検査装置及び検査方法

発明者：
松下 孝三

松下 孝三 について

, 
松村 幸紀

松村 幸紀 について

, 
田貫 富和

田貫 富和 について


出願人/特許権者：
コマツ電子金属株式会社

コマツ電子金属株式会社 について

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株式会社小松製作所

株式会社小松製作所 について


代理人 (1件)： 正林 真之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-269147
公開番号（公開出願番号）：特開2002-082063
出願日： 2000年09月05日
公開日（公表日）： 2002年03月22日
要約：
【要約】【課題】 不良とすべきキズやヨゴレを確実に検出することができるウエハ表面検査装置及び方法を提供する。【解決手段】 シリコンウエハ表面の微細な点欠陥(LPD)の2次元分布情報30からその偏在するLPDの集合体をキズやヨゴレとして検出するような手段21を備えることにより、パーティクルカウンタ11から得られるLPDマップに基づいてキズやヨゴレを検査することができ、検査効率の向上をもたらすことが可能となる。
請求項（抜粋）：
パーティクルカウンタから供給されるウエハ表面の2次元欠陥分布情報(LPDマップ)に基づいて当該ウエハ表面のキズの検出を行うウエハ表面検査装置であって、前記パーティクルカウンタから供給される前記LPDマップを取り込む入力手段と、各ウエハ毎の前記LPDマップを複数のウエハについて蓄積し得る記憶手段と、この記憶手段に蓄積されているLPDマップの中で、LPDの偏在を検出することによってウエハ表面のキズの検出を行う情報処理手段と、を備えることを特徴とするウエハ表面検査装置。
IPC (3件)：
G01N 21/956 ,  G01B 11/30 ,  G06T 1/00 305
FI (3件)：
G01N 21/956 A ,  G01B 11/30 A ,  G06T 1/00 305 C
Fターム (44件)：
2F065AA49 ,  2F065AA54 ,  2F065BB02 ,  2F065BB29 ,  2F065CC19 ,  2F065FF42 ,  2F065FF61 ,  2F065GG04 ,  2F065HH02 ,  2F065JJ00 ,  2F065QQ05 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ31 ,  2F065TT03 ,  2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AB07 ,  2G051AC02 ,  2G051BA10 ,  2G051CA04 ,  2G051CB05 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EA16 ,  2G051EB01 ,  2G051EB02 ,  2G051EC01 ,  2G051EC02 ,  2G051ED05 ,  2G051ED08 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CB08 ,  5B057CB12 ,  5B057CC02 ,  5B057DA03 ,  5B057DA08 ,  5B057DA13 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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